退火对CN薄膜光学性质的影响.PDFVIP

第 22卷第 3期 红 外 与 毫 米 波 学 报 Vol，22．No．3 2003年 6月 J．InfraredMillim．Waves June，2003 退火对 CN 薄膜光学性质的影响 郜小勇’张晋敏’凌 浩’王松有’吴嘉达’杨月梅’陈良尧’ (”复旦大学先进光子学器件和材料国家重点实验室 ，上海，200433； 贵州大学物理系，贵卅I，贵阳，550025) 摘要 报道 了退火对电子回旋共振(ECR)辅助脉)中激光溅射方法制备的CN 薄膜样 品光学性质的影响．X射线衍 射(XRD)结果显示CN 薄膜基本为无定形结构 ，但存在微量的多晶结构．拉曼散射谱显示所制备 的CN 薄膜样 品 主要由 C=N 、少量的c—c和微量的 c三三三N组成．随着退火温度的升高，拉曼散射谱不但在 1357cm 附近出现 了一个新峰(新峰对应无序的CN键)，而且 C=N 和CN的相对含量比随着退火温度的提高大致呈先减小后增大 再减小的趋势，从而证实在退火过程中部分N原子发生了迁移．椭偏仪所测量的CN 薄膜的光学常数表明退火温 度对 ，、 、n、k的大小和谱线的形状均产生了显著影响．结合拉曼散射谱可断定其原因为退火改变了CN 薄膜样 品的内部结构和键结构．实验中得到的 ，、 、n、k随光子能量的变化关系可用洛伦兹色散理论得到很好解释． 关键词 椭偏光谱，电子回旋共振，反常色散，拉曼散射． EFFECT OFANNEALING ON OPTICAL PROPERTY OF CN FILM GAOXiao．Yong” ZHANGJin．Min。’ LING Hao“ WANG Song．You’ WUJia．Da“ YANGYue．Mei“ CHENLiang．Yao (”StateKeyLabofAdvancedPhotonicDevicesandMaterials，FudanUniversity，Shanghai200433，China； ”DepartmentofPhysics， GuizhouUniversity，Guiyang，Guizhou550025，China) Abstract Theeffectofannealingon opticalpropertiesoftheCN filmspreparedby electron cyclotron resonance laser pulseassisteddepositionwasreported．X-raydiffraction (XRD)showsthatCN film sampleshavebasicallyamorphous structureandvery littleamountofpoly—crystallinesturctures．RamanScatteringspectrademonstratesthatthebondsinCN filmspreparedatroomtemperature(RT)aremainly C—N bonds，butafewC— Candminim CiN bonds．Withthe annealingtemperatureincreasing．notonlyappearsanew peakcorrespondingtodisorderedCN bondnear1357cm inRa— man Scatteringspectra．butalsothecomparableaccumulationsbetween C— N andC～ N bondsroughlytendtodecrease atfirst，thenincreaseandthendecreaseagain．Itprovesthatpartialhydrogenatomsinthesamplesarem