柠檬酸对聚合物前驱体法制备WO3薄膜光电性质的影响-中南大学学报.PDF

第 43 卷第 5 期 中南大学学报(自然科学版)  Vol.43  No.5  2012 年 5 月  Journal of Central South University (Science and Technology)  May2012  柠檬酸对聚合物前驱体法制备 WO 薄膜光电性质的影响 3  李文章，李洁，王旋，黄晔，陈启元  (中南大学 化学化工学院，教育部资源化学重点实验室，湖南 长沙，410083)  摘要：以偏钨酸铵为钨源，柠檬酸为络合剂，聚乙二醇(PEG)为聚合物合成前驱体溶胶，并用浸渍提拉法在 FTO  导电玻璃上制备了 WO 薄膜，研究配位剂柠檬酸对聚合物前驱体法制备 WO 薄膜结构和光电性质的影响。采用  3  3  X 线衍射、拉曼光谱和场发射扫描电镜等手段研究薄膜的相组成及表面形貌，借助标准三电极体系进行了光电化 学测试，并进一步讨论了柠檬酸对 WO 薄膜光电性能影响机理。结果表明：CA和 W摩尔比为 0，0.5，1.0和 2.0  3  条件下薄膜表面颗粒平均尺寸分别为 60，80，110和 115 nm，500W氙灯照射 1.2 V(vs Ag/AgCl)偏压条件下，光 2  电流密度分别为 2.4，3.2，3.4 和 3.5 mA/cm ；柠檬酸的加入有效地改变了薄膜的表面形貌，较高的表面粗糙度和 较大的颗粒使得 WO 薄膜电极有更好的光电性能。 3  关键词：柠檬酸；三氧化钨；纳米薄膜；光电化学 中图分类号：O614；TB383  文献标志码：A  文章编号：1672−7207(2012)05−1638−07  Influence of citric acid on photoelectrochemical properties of  WO films obtained by polymeric precursor method  3  LI Wen­zhang, LI Jie, WANG Xuan, HUANGYe, CHEN Qi­yuan  (Key Laboratory of Resources Chemistry of Nonferrous Metals, Ministry of Education, School of Chemistry and  Chemical Engineering, Central South University, Changsha 410083, China)  Abstract: The influence of citric acid (CA) on microstructure and photoelectrochemical properties of WO films was