玎直接合成法中二硅烷馏分的应用邱化玉杜作栋(.pdfVIP

打机 材料丑应用 990年 4l}玎 直接合成法中二硅烷馏分的应用 邱化玉 杜作栋 (山东大学新材料研究所) 前 言 甲基氯硅烷直接 合成法 (Rochow法)中的 MeS2Hi8CI2十Me42S0iCI2 高沸 物 (100℃ 以上 的副 产 物)主 要 是 由含 在无 水 A1CI催 ＼ ／ ＼ ／ — 卜 一 — s }一 及 M02sjHCl+ MeSiCla ， ／ ＼ ／ ＼ 8 24 一 ＼ ／ 化下，二硅烷馏分能发生重分配反应，生成对称 — _s—cHr-s 一等结构 的化合物组成，其总 ／ ＼ 的二 甲基 四氯二硅烷 量约占二 甲基单体的 4—8 。l5O～160C的馏 2．H 对 s卜 j键的裂解 分主 要是 MeCISiSiMeCI2、MeCl2S]SiMeCl2等二 s i键 在 过 渡 金 属 络 合 物 或 硅烷，其组成和 比例取决于直接法 中昕用硅的 Al _『-KoH 等催化下能被 H2裂解，Ni／HM— 纯度、催化剂的性质及反应条件 。有关二硅烷馏 PA是较好的催化荆 二硅烷馏分氢解后生成有 分的利甩，国外 已有一些报道，国内对此研究的 机 氯硅烷 混合单体 ，主 要有 Me~SiHCl、MeSiH— 较少。二硅烷馏分不但可转化成有用的氯硅烷 CI2、MeSiC13、Me2SiC12等，其中，Me~iHC1在聚硅 单体 ，而且可用来合成能转化成Si—C或 SI—C—N 氧烷 的合成中作为封头剂 ，是极其宝贵的单体。 纤维或陶瓷材料的聚硅烷或聚硅氮烷 本文就 M SiCI=-．M eo ( — MeHSiCI+ M eHSjCI 、 国内外有关这方面 的情况作一介绍 ，以期 引起 m≥ l，n≤ 3) ～ 。。 。 国内各研究单位和生产厂家的注意。 +Me,SiO2+Meq．lCl~+ … … 二硅烷馏分的反应及应用 3．卤化物对 s卜_sj键的裂解 1．HCI对 sj—sj键的裂解 二硅烷馏分 可与 Me2SiCl或 MediCI进行 sj—sj在有机碱存在下可被 HCI裂解。例如， 重分配反应，从而 增加 1，l，2一三 甲基三氯二 在叔胺戡 其胺 盐存在下，将 甲基氯 二硅烷 与 硅烷的含量。如果在AlCla存在下用乙酰氯处 HCI于 90m 150℃反应 ，s卜-si键发生断裂生 理二硅烷馏分可得到对称 的二 甲基四氯二硅 成 甲基 氯 硅 烷 混 合 单体，其 重 量 组 成 为： 烷 。 Me2SiCI2l5—33 ，MeHSICl2l5— 33 ，M eSiCI3 40—60 ，二硅烷馏分 的转化率 为 60一 。 一 二硅烷馏 些过渡金属络合物，如(Me=PhP)2PdC12，能催 化 HCI对 s卜_si键