奈米科技概说.docVIP

奈米的檢測與分析 4-1 測量奈米的工具 4-2 掃瞄探針顯微術 4-3 磁力顯微技術 4-4 近場光學顯微術 4-5 其他掃瞄顯微鏡 4-6 奈米感測器 4-7 顯微鏡之應用 4-8 奈米材料的檢測 4-1 測量奈米的工具 奈米技術之可以發展實用是因為有了工具，可以來觀察、量測、操作奈米尺度。就像微車床、蝕刻機、可見光微影設備等。 新高等材料之快速發展在過去二十年有長足的進步，其中一個主要的因素是新研究工具的精化，這包含探測及分析奈米材料特性之儀器與奈米材料性質電腦模擬計算上的進步。新儀器包含各種新式顯微技術，在高解析度穿透式電子顯微鏡 (high resolution transmission microscopy)上。掃瞄穿遂式顯微鏡(scanning tunneling microscopy)，掃瞄原子力顯微鏡(atomic force microscopy)，掃瞄磁力顯微鏡(magnetic force microscopy) 。 光電子能譜顯微術，近場光學顯微術則可測量出單一分子或團簇的性質。在小角度X光散射，及中子散射則可觀察凝態中尺度結構。 在物理性質測量上則有例如：SQUID (superconducting quantum interference device，超導量子干涉元件)測磁性，量子霍爾效應量度，以及單電子導電性測量之發展都有快速進步。 1.掃描探針儀器 在掃描探針量測時，它的探針，亦稱尖端(tip)沿著表面滑過，探針的大小為奈米尺度，常常只是一個原子的大小，用它來掃描標靶。 掃描穿隧顯微鏡(STM)是量測探針尖端與表面之間電流流量。 磁力顯微鏡(magnetic force microscope,MFM)掃描尖端用的是磁力，它是用來感應表面的局部磁性結構。 2.光譜儀 光譜宜是用特定顏色的光照射到樣品上，觀察它的吸收、散射、或者其他的性質。 X-光儀。 磁力共振影像(magnetic resonace imaging,MRI)。 3.電化學 最常用的電化學就是電池，是由化學變化來產生能量，相反的過程就是電鍍。 4.電子顯微鏡 光學顯微鏡是最早被發展出來增進人類顯微視野的工具。主要結構包括:接物鏡、接目鏡及光源。 為達到接近奈米的解析度，最適合使用的光源就是X光。1938年發展出第一台的電子顯微鏡(electron microscope，或EM)。 電子顯微鏡依照其操作方式及偵測方式的不同，可分為兩種: (1)掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscope，或SEM) (2)穿透式電子顯微鏡(transmission electron microscope，或TEM) 4-2 掃描探針顯微術 1.掃描探針顯微術 掃描探針顯微術(SPM)包括了掃描穿隧顯微數(STM)、原子力顯微術(AFM)、磁力顯微術(MFM)等。 STM的發展趨勢有: (1)探針型資料儲存技術，將促進超高密度儲存系統之發展 (2)解析度陸續提高 (3)功能與效能將越來越強 (4)應用於生物材料 2.掃描穿隧顯微鏡 (1)基本原理 STM的基本原理是量子的穿隧效應，利用金屬針尖在樣品的表面上進行掃描，根據量子穿遂效應的大小，來獲得樣品表面的圖像。 (2)STM儀器架構 圖4-2 掃描穿遂顯微鏡之基本架構 掃描穿遂顯微鏡的取像方式，有兩種工作模式: ①定電流取像法(constant current mode) ②定高度取向法(constant height mode) 3.原子力顯微鏡 AFM量測原子間凡得瓦力為主，來得到表面原子排列的圖像，又可適用於各種樣品，不分導體或非導體，可以彌補STM只能用於導體上的缺點。 原子力顯微鏡又可稱為掃描力顯微鏡(scanning force microscope；SFM)。 原子力顯微鏡(AFM)的工作: 1.利用探針來偵測探針與樣品表面間的原子力。 2.設定探針與樣品間的交互作用在掃描過程中保持一定的距離(約0.1nm)，利用回饋電路，紀錄樣品表面每一點的垂直微調距離，獲得樣品表面圖像，進而推導樣品表面特性。 3.雷射懸臂探針樣品偵測器回饋電路低功率雷射感應器。 圖4-3 凡得瓦力與針尖樣本間距的關係 1.接觸式(contact mode) 2.非接觸式(non- contact mode) 3.輕敲式(tapping mode) 原子力顯微鏡之優點: 1.相較於傳統微米尺度之表面測量，原子力顯微鏡具有較佳之垂直解析度與水平解析度。 2.可應用於導體與非導體材料之幾何形貌(t