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BlueLED制程整合
Blue LED製程整合
指導老師:許進明 老師
報告學生:方若恩 4A0L0084
Outline
Blue LED簡介
結構
製程
參考資料
Blue LED簡介
1986 年利用 MOCVD 磊晶低溫緩衝層,成功地成長透明、沒有
表面崩裂的 GaN 薄膜 。且進一步由 X-ray 繞射光譜、光激光譜 -
PL 等量測結果,驗證了加入低溫 緩衝層後所磊晶的 GaN 薄膜,
具有完美的晶格排列。
1989 年成功磊晶出p-GaN 薄膜,日本 Akasaki 研究團隊利用低
能量電子束照射 GaN 薄膜,並藉此獲得低電阻特性,同時他們也
成功地製作出具有 p-n 接面之藍光 LED 。
1992 年日本 Nichia 公司(日本日亞化學公司)的中村修二博士,
使用熱退火技術成功地活化磊晶在低溫緩衝層上的 GaN薄膜,並
在 1995 年研製出高亮度 GaN 藍光與綠光 LED 。
1996 年中村修二博士又提出利用 InGaN 藍光 LED (波長460
nm~470 nm )激發產生黃色螢光物質之白光 LED 。
1
Blue LED簡介
上游 單晶棒單晶片結構設計磊晶片
成品:單晶片、磊晶片
金屬蒸鍍光罩蝕刻熱處理(P,N電極製作)
中游 切割崩裂
成品:晶粒
晶粒黏著打線樹脂封裝剪腳
下游 成品:Lamp 、數字/ 字元、表面黏著式、點
矩陣型、集束型、module
2
結構
(一)垂直式 (三) 覆晶式(Flip-Chip)
(二)水平式(傳統型)
3
製程
藍寶石晶體生長製成
長晶 掏棒 滾磨 晶檢 晶棒
4
製程
藍寶石晶體加工製成
晶棒定向 基板
切片 研磨 導角 拋光 清洗 晶檢
5
製程-磊晶製程
有機金屬氣象沉積(MOCVD)
原理:利用在反應爐中通入欲
化合元素與有機根所形成的氣
體,使其在基板產生化學反應
並形成想得到的材料與薄膜。
6
溫度在再提升950℃
成長40nm 的p-AlGaN 和100nm 厚的p-GaN 層
溫度降低至730℃
沉積InGaN/GaN 量子井主動層(5 對)(3nm/20nm)
再升溫至1090℃成長3μm 的n-GaN
長30nm 的GaN 緩衝層(530℃)
首先(0001)面的藍寶石加熱至1100 度(10 分鐘)
以去除表面任何髒污
7
製程-晶粒前段製程
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