哈氏合金C_276电抛光中抛光液的失效分析_胡宗林.pdfVIP

第46 卷 第 5 期 表面技术 2017 年5 月 SURFACE TECHNOLOGY ·255 · 哈氏合金 C-276 电抛光中抛光液的失效分析 胡宗林，陆玲，庄维伟 （苏州新材料研究所有限公司，江苏 苏州 215125） 摘 要：目的哈氏合金C-276 带材被广泛用作第二代高温超导体YBCO 的金属衬底，其表面抛光质量（粗 糙度 Ra ）要求极为严格。为了保证抛光质量就要有效控制电化学抛光液，对抛光液的变化及失效与否进行 分析。方法 以哈氏合金C-276 带材为研究对象，采用非接触式电化学抛光方法，使用扫描电镜、原子力显 微镜、金相显微镜、微波等离子体原子发射光谱仪等仪器设备，阐明了抛光液中 H PO 和 H SO 等主要成 3 4 2 4 分的作用及工艺要求，并测定单位体积抛光液在一定时间内通过电量（Ah/L ）后，H PO 、H SO 含量及 3 4 2 4 Ni 、Cr、Mo 等金属离子浓度。结果 当H PO 、H SO 含量分别在775 ～1013 g/L、318 ～451 g/L 范围内， 3 4 2 4 Ni 、Cr、Mo 三种金属离子质量浓度分别小于7.3、2.7、3.4 g/L 时，C-276 带材表面的粗糙度才能满足工艺 要求Ra1 nm （5 μm× 5 μm ）。结论 通过对电化学抛光液中的H PO 、H SO 、添加剂、金属离子浓度等有 3 4 2 4 效控制，采用非接触式电化学抛光，实现了千米级哈氏合金第二代高温超导带材的连续生产，并且表面粗 糙度Ra1 nm 。 关键词：哈氏合金；电化学抛光；抛光液；粗糙度 中图分类号：TG175.3 文献标识码：A 文章编号：1001-3660(2017)05-0255-06 DOI ：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.05.041 Failure Analysis of Electrolyte in E-polishing Process of Hastelloy Alloy C-276 HU Zong-lin, LU Ling, ZHUANG Wei-wei (Suzhou Advanced Materials Research Institute, Suzhou 215125, China) ABSTRACT: Hastelloy alloy C-276 strip has been widely used as metallic substrate of YBCO second generation high temperature su- perconductor. The all