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含吡喃锄端基的不对称--EpJlI染料
维普资讯
1995年 第 7卷 第 1期 化 学 研 究 与 应 用
~lcmicalRcs~rchandApplication .7No.I 1995
含吡喃锄端基的不对称EpJlI染料
一 。 合成及光性能 了占
f卵
摘 要
^
,台成了八个新的禽吡喃铺端基的不对称三甲JI料,通过元索分析、m9c-~A—H—NMR谱
确 ‘ 。 的
关键词多甲Jl隙料毗喃钳 合成 电子吸收光谱 ’卅并‘
在红外区域吸收的吡哺铀染料的合成及性能研究日益增多,Drexhage等已用此类染料
用于红外染料激光研究,取得很好的效果 --3,业已证明这些染料有高的光化学稳定悝 ~,
同时,对称的毗哺铺多甲川染料比对称含氮杂环多甲川染料吸收波长要长,如三甲川染料
红移l6。门m∞。本文通过吡哺钳高氯酸盐与含氮碱性杂环二里 圭蔓萝合,得到了8个一端
为毗哺铺环的不对称三 甲川染料,反应如下:
COCH3
R
+ 一c cH
I
CIO _
CB
R
l,X= S,R’=CH3,R。=R :R =‘H; 2.X=S,R = ,R2一R3一R|=H;
3,X= S。R :C~l-h, 一 一H ,R~=CI; 4,X=S,R]=Cd-~,R2一R =‘H,R~=OCH3
5,X=S,R’=C~l-h,R2一H , : 一CH3
6.X= S,R =C ,R4# H , 、R。= = cH一 一 CH ;
本文于1994年2月28日收到 。
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7,X=So,R’=C2I%,R2=Rs—R 一H ; 8,X=O,R’一GH5,R 一R 一R 一‘H ;
实 验 部 分
’1.仪器 元索分析用意大利CarloErba公司的MOD1106自动元素分析仪;红外光谱用
美国NicoletFTIR20X测定,KBr压片;}卜NMR谱用瑞士WP--IOOSY核磁共振仪,溶剂为
DMSO~ e,TMS为内标;熔点用北京光电设备厂x4型显微熔点仪测定,温度计未经校正;
电子吸收光谱用 日本岛滓uV一260分光光度计测定,
2.中问体合成 吡哺铺高氯酸盐按文献[6]合成;二甲川半菁参考文献[7]合成。
3.染料合成 将等摩尔吡哺铺高氯酸盐与二甲川半菁碘盐溶解于醋酐介质中,加热回
流0.5h,冷却,固体析出,过滤,染料用二氯乙烷与甲醇混合溶剂重结晶。
染料 1:产率 22%,熔 点 283~285(2,C31I-I26CtNO~S实验值 (计算值) :C:66.07
(66.48),H:4.60(4.68),N:251(2.50),IR:34O0,2900,1620,1560,1470,1440,1390,13,10,
1250,1190,109 l 0,9豳 ,g2o,770,700,620cmy H~ NMR:1.72(m,2H,Ha),2.16
2.96(m,4h,llb,tic),4.O0(s,3H,NCI-I~),6.4
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