基于刻蚀速率匹配的离子刻蚀产额优化建模方法-物理学报.pdfVIP

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 63, No. 4 (2014) 048201 基于刻蚀速率匹配的离子刻蚀产额优化建模方法 高扬福 宋亦旭 孙晓民 (清华大学计算机科学与技术系, 智能技术与系统国家重点实验室, 清华大学信息科学与技术国家实验室, 北京 100084) ( 2013 年8 月20 日收到; 2013 年11 月7 日收到修改稿) 随着微电子产业的不断发展, 刻蚀特征尺度达到纳米级, 等离子体刻蚀工艺过程机理研究越来越受到重 视. 刻蚀表面仿真是研究离子刻蚀特性的重要方法. 在离子刻蚀表面仿真中, 离子刻蚀产额模型是研究刻蚀 机理的重要模型, 也是元胞自动机等仿真方法的重要基础. 为了解决利用传统方法无法得到准确刻蚀产额模 型参数的问题, 本文提出一种基于刻蚀速率匹配的离子刻蚀产额优化建模方法, 该方法以实际刻蚀速率与模 拟刻蚀速率之间的均方差为优化目标, 利用基于分解的多目标进化算法来优化离子的刻蚀产额模型参数, 并 将得到的刻蚀产额模型参数应用到采用元胞方法的刻蚀工艺的实际