不同本底真空度下牦犻犆／犕犵极紫外多层膜的制备和-光学精密工程.pdfVIP

第 卷 第 期 光学 精密工程 １７ １２ 　 Ｖｏｌ．１７ Ｎｏ．１２ 　 　 　　 　　　　 　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　 　　　 　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２００９ １２ Ｄｅｃ．２００９ 　 　 　 　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２００９１２２９４６０６ 　 不同本底真空度下 ／ 极紫外 犛犻犆犕犵 多层膜的制备和测试 １ １ １ １ １ 朱京涛 ，黄秋实 ，白 亮 ，蒋 晖 ，徐 敬 ， 　 　 　 １ ２ ２ １ １ 王晓强 ，周洪军 ，霍同林 ，王占山 ，陈玲燕 （ 同济大学 物理系 精密光学工程技术研究所，上海 ； １． ２０００９２ ２．中国科技大学 国家同步辐射实验室，安徽 合肥 ２３００２９） 摘要：为研究不同本底真空度对 ／ 极紫外多层膜光学性能的影响，利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件 ＳｉＣＭｇ 下制备了峰值反射波长在 的 ／ 周期膜。 射线掠入射反射测试结果表明，不同本底真空度条件下制备 ３０．４ｎｍ ＳｉＣＭｇ Ｘ 的 ／ 周期多层膜膜层质量有明显差异。用同步辐射测试了 ／ 多层膜在工作波长处的反射率，结果表明，本 ＳｉＣＭｇ ＳｉＣＭｇ 底真空度为 －５ 时， ／ 周期膜反射率为 ，而本底真空度在 －４ 时， ／ 多层膜反射率 ６．０×１０ Ｐａ ＳｉＣＭｇ ４３％ ５．０×１０ Ｐａ ＳｉＣＭｇ 仅为 ３０％。同步辐射反射曲线拟合结果表明，反射率随着本底真空度降低是由多层膜 Ｍｇ膜层中的 Ｍｇ氧化物含量增 多造成的。 关 键 词：极紫外光学；本底真空度；多层膜；反射率；磁控溅射 　 　 中图分类号： 文献标识码： Ｏ４８４．１ Ａ 　　 ／ 犕犪狀狌犳犪犮狋狌狉犲犪狀犱犿犲犪狊狌狉犲犿犲狀狋狅犳犛犻犆犕 犈犝犞 犵 犿狌犾狋犻犾犪犲狉犿犻狉狉狅狉狊犻狀犱犻犳犳犲狉犲狀狋犫犪狊犲 狉犲狊狊狌狉犲狊 狔