原创力文档- 1、本文档共19页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
《铁机》激光增透膜
* * 激光增透膜 学号： 姓名：王平贵 目 录 一、常用激光器 二、激光增透膜要求 三、膜系设计 四、工艺 五、总结与展望 一、常用激光器 固体激光器 气体激光器 半导体激光器:GaAs激光器：355nm，532nm，808nm，980nm 准分子激光器 光纤激光器:1064nm,1550nm 红宝石激光器:694nm Nd:YAG激光器:1064nm He-Ne激光器:632.8nm，543nm，1150nm CO2激光器:10600nm N2激光器:337nm Ar激光器:488nm,514nm ArF:193nm KrF:248nm XeCl:308nm 二、激光增透膜要求 1.透过率要求 2.损伤阈值要求 3.环境要求 三、膜系设计 1、膜料选取 三、膜系设计 三、膜系设计 2、TFC设计 三、膜系设计 四、工艺 1、基片清洁度 残余杂质或清洁剂会使基底光学特性变坏，附着力下降 四、工艺 2、真空度 真空是镀膜的必要条件 两个作用 减少蒸发分子与残余气体分子的碰撞 抑制他们之间的反应 3、预熔 四、工艺 预熔的好坏将影响膜料 的沉积速率以及真空度 两个作用 除气，在蒸镀时保持真空室的压力恒定 可以除去混杂在膜料中的低熔点杂质，提高膜层的纯度 4、离子轰击 表面粗糙度增加，激活表面的形成，氧化作用和聚集密度增大 两个作用 蒸镀前的轰击，可以克服基底表面的吸附能，对基底表面除气，同时去除基底表面的污染物 蒸镀过程中的轰击，可以提高膜层的致密性，有利于改善膜层的应力及增强附着力 四、工艺 四、工艺 5、蒸发方法及蒸发速率 各种蒸发方法提供给蒸发分子或原子的动能有很大差异，因而膜层结构有很大变化 蒸发速率会影响膜层结构，气体的结合和凝聚时的反应以及膜料的吸收 四、工艺 6、基片温度 基片温度主要影响凝聚系数，膨胀系数，膜层结构，晶体生长和聚集密度，从而导致薄膜折射率，应力，附着力，散射，几何厚度，硬度和不溶性等变化 * *
文档评论（0）