要点真空镀膜技术.pdf

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真空镀膜技术

真空镀膜 真空镀膜 2005年上学期期末实验论文 2005年上学期期末实验论文 物理学院:王飞 物理学院:王飞 一、镀膜技术的历史 一、镀膜技术的历史 保护膜 保护膜 化学镀膜 化学镀膜 1817年减反射膜 1817年减反射膜 1930年出现了油扩散泵-机械泵抽气系统 (条件) 1930年出现了油扩散泵-机械泵抽气系统 (条件) 1935年单层减反射膜 1935年单层减反射膜 1938年双层减反射膜 1938年双层减反射膜 蒸镀 1965年三层减反射膜 蒸镀 1965年三层减反射膜 真空镀膜 1937年通用公司第一盏镀铝灯 真空镀膜 1937年通用公司第一盏镀铝灯 1939年介质薄膜型干涉滤管片 1939年介质薄膜型干涉滤管片 1970年出现磁控溅射技术 1970年出现磁控溅射技术 磁控溅射 1975年磁控溅射设备商品化 磁控溅射 1975年磁控溅射设备商品化 80年代后磁控溅射技术工业化 80年代后磁控溅射技术工业化 二、真空蒸镀铝膜 二、真空蒸镀铝膜 原理: 原理: 即在真空中将蒸镀材料加热蒸发产生蒸气, 即在真空中将蒸镀材料加热蒸发产生蒸气, 使其附着在基板上凝聚成薄膜。真空蒸镀属 使其附着在基板上凝聚成薄膜。真空蒸镀属 于物理气相沉积法。 于物理气相沉积法。 内容: 内容: 在两块玻璃上镀制高反射铝膜,将其组装成 在两块玻璃上镀制高反射铝膜,将其组装成 法布里-珀罗干涉仪 ,并观察氢光谱的干涉 法布里-珀罗干涉仪 ,并观察氢光谱的干涉 条纹。高反射膜镜组成的谐振腔是法布里- 条纹。高反射膜镜组成的谐振腔是法布里- 珀罗干涉仪的重要组成部分。 珀罗干涉仪的重要组成部分。 三、高反射金属膜 三、高反射金属膜 1.金属膜反射原理: 1.金属膜反射原理: 金属中的外壳层电子( 自由电子)并没有被原子核束缚, 当 金属中的外壳层电子( 自由电子)并没有被原子核束缚, 当 金属被光波照射时, 光波的电场使自由电子吸收了光的能 金属被光波照射时, 光波的电场使自由电子吸收了光的能 量, 而产生与光相同频率的振荡, 此振荡又放出与原来光线 量, 而产生与光相同频率的振荡, 此振荡又放出与原来光线 相同频率的光, 称为光的反射。这种电子的振荡随着深度 相同频率的光, 称为光的反射。这种电子的振荡随着深度 的增加而减小, 使电子振荡的振幅减小到原来1/e时(e为自 的增加而减小, 使电子振荡的振幅减小到原来1/e时(e为自 然对数)的深度称为穿透深度, 此穿透深度决定了金属是透 然对数)的深度称为穿透深度, 此穿透深度决定了金属是透 明还是反射, 通常大部份金属的穿透深度只有几十或几百 明还是反射,

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