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测量多层膜结构中薄膜厚度的一种新方法.pdf
光 电子 ·激 光
第 卷 第 期 年 月
16 4 2005 4 Vol. 16 No. 4 A r. 2005
Journalo O toelectronics Laser p
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测量多层膜结构中薄膜厚度的一种新方法%
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陈希明 !马 靖!徐 晟!吴小国!孙大智!杨保和
天津理工大学光电系 天津 300191
摘要 提出一种基于平行板电容测微原理进行多层膜材料的测厚方法 该方法用有效电极直径 3 mm
电容传感头 通过变化空气隙 进行多次测量 对输出电压 值进行线性拟合 得到空气隙与测量电
Ah V
压的关系 计算出被测厚度 测量精度达 0. 01 Hm 若采用有效电极直径 1 mm 传感头 测量精度可达
0. 001 Hm 通过理论分析和实验证实 该方法不需对被测材料提前标定相对介电常数 不需特殊制备样
件 是非接触测量 测量方法简单 成本低 因此适用于各种薄膜 特别是多层结构膜的无损膜厚测量及
平面度测量
关键词 多层薄膜结构 无损厚度测量 电容测微
中图分类号! 文献标识码! 文章编号!
TN247 A 1005-0086 2005 04-0466-04
A Novel Method for Measurin Film Thicknessin La eredStructureg y
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CHEN Xi-min MA Jin XU Shen WU Xiao- uo SUN Ia-zhi YANG Bao-he
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Ie artment of O toelectronicS Tian in UniverSit of Technolo Tian in 300191 China
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Abstract A nOvel measurement methOd fOr multila ered films thickness Was resented y P
based On ca acitance rinci le.
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