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激光量热法测量光学薄膜微弱吸收.pdf
第33卷第6裳 中 国 激 光 V01．33，No。S
2006年6月 CHINESE 0FI。ASERS June，2006
JOURNAL
文章编号：0258—7025(2006)06一0823～04
激光量热法测量光学薄膜微弱吸收
Blaschkez，DetlevRistau。
李斌成1，熊姓明1，Holger
(1中国科学院光电技术研究所，四川成都610041；2汉诺威激光中心，德国汉诺威30419)
摘要按照国际标准ISO
11551研制了用于测量光学薄膜微弱吸收的激光量热装置。典型情况下吸收测量灵敏
疫傀予10一，测量误麓售诗为lo％左右。在106莲凇波长溺量l黼m零石英玻璃基叛懿绝怼吸枝鸯3。4×lo一，溅
蹙灵敏度达到1．5×】O～。测照了不同膜层设计、不同使用角度、不同镀膜技术镀制的企介质离反膜样品；使用离子
制的Hf02／SiO。多层45。反射镜的吸收测避值为6．83×10一。
关键谲 溅量技术；徽弱啜牧；激光爱热法；光学薄膜
TN 484．5 A
中图分类号 247：0 文献标识码
Weak of ThinFilmswith
MeasHringAbsorptanceopticaI
LaserCalorimetric
Technique
LI Blaschke2，DetlevRistau2
Bin—chen91，X10NGSheng—min91，Holger
f挖s￡拓稚}g
，1 D，()多≠ifs窿摊蠢嚣苫#c￡掰筇ics，强孝蕊i嚣g苫8A蕊蠢e掇≯o，Scig携cgs，缴P起g矗鲜，S拓毳；缎摊s王004l，(凌i箨拄、
＼ 2LnsPrZ8押￡r“mJ彳n咒咒。材Pr ／
8．V．，Hn推咒。伽r
30419，GPrmn挖y
A calorimeterin withlSO1l551 the
AbstractIaser compliance wasdevelopedtomeasureabsoluteabsorptanceof
thinfilms。Undera conditionthe ofthecalorimeterwasbetterthan10一6and
optieal typical absorptancesensitivity
themeasurementerrorwasestimatedto Foranuncoatedfused substratewithl—mlTl
be～10多6． silica thickness，the
was the
measuredabsorptance3．4×10叫andsensitivitywas～1．5×10～。Thelasercalorimeterwasemployedto
“leasurethe of reflectivedielectrie twodifferent The
absorptancehig
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