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纳米薄膜与纳米固体材料 纳米薄膜 纳米薄膜分类 纳米薄膜分为三类： （1）由纳米粒子组成(或堆砌而成)的薄膜， （2）在纳米粒子间有较多的孔隙或无序原子或另一种材料。纳米粒子镶嵌在另一基体材料中的颗粒膜就属于第二类纳米薄膜。 （3）薄膜厚度在纳米级，或有纳米级厚度的薄膜交替重叠形成的薄膜。 5.1薄膜材料的制备 气相法 1. 真空蒸发 法 (源单层蒸发；单源多层蒸发；多源反应共蒸发) 2. 真空溅射法 磁控溅射，直流磁控测射（单靶(反应)溅射；多靶反应共溅射：射频磁控溅射[单靶(反应)溅射；多靶反应共溅射 3. 离子束溅射 4. 化学气相沉积， 金属有机物化学气相沉积(MOCVD) ,热解化学气相沉积(热解CVD),离子体增强化学气相沉积(PECVD),激光诱导化学气相沉积(LCVD),波等离子体化学气相沉积(MWCVD) 液相法 5. 溶胶-凝胶(sol-gel法 6. 电镀法，化学镀 7 LB膜 真空蒸发镀膜： 在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。它的优点是沉积速度较高，蒸发源结构简单，易制作，造价低廉，但不能蒸发难熔金属和介质材料。最大的缺点就是材料的利用率极低（试料在篮状蒸发源中以　　立体角、在舟状蒸发源中以立体角四散开来） 真空溅射镀膜： 当高能粒子(电场加速的正离子)打在固体表面时，与表面