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湿刻简介 WET team 2010年10月5日 Summary TFT简易流程 湿刻设备构成 刻蚀方式 搬送线类型 刻蚀反应原理 药液浓度控制 Taper角 CD loss 刻蚀后的关联检测 TFT 简易流程 湿刻设备构成： 湿刻设备构成： 设备主要工艺单元： EUV unit:祛除玻璃表面有机残留物。 Etch zone:刻蚀区域 Rinse unit:水洗单元 Dry unit：干燥单元 液刀：主要起预湿（置换），冲刷的效果。 风帘：主要是吹掉玻璃上残余的药液 风刀：干燥的玻璃的效果。 WET Etcher ◇工程概念图 刻蚀的方式 Spray mode:通过喷嘴将药液均匀的喷洒在玻璃上方进行蚀刻。有冲刷的效果，刻蚀速率快。 Dip mode：将玻璃完全浸泡在药液里进行蚀刻。反应生成物带走较慢，刻蚀速率慢。Taper比较好. 混合模式：以上2种模式一起使用的刻蚀方式。根据需要采用混合模式，可以改善taper 刻蚀时最重要的工艺是控制刻蚀速率。 刻蚀的模式，药液喷淋的流量，浓度的变化都会影响刻蚀的速率。 搬送线类型： 设备Etch zone的搬送线为水平搬送线。 在spray mode下药液冲刷的效果不好。 刻蚀反应原理：Al 一般Ａｌ蚀刻液是由硝酸、磷酸、醋酸的混合酸组成。某些公司会增加一些添加剂起辅助蚀刻的作用。 ◇第一阶段（生成活性酸素） ２ＨＮＯ３ ?２ＮＯ２＋（Ｏ）＋Ｈ２Ｏ　???（ＨＮＯ３浓度高时） ２ＨＮＯ３ ?２ＮＯ＋３（Ｏ）＋Ｈ２Ｏ　??? （ＨＮＯ３浓度低时） ◇第二阶段（生成中间体） ２Ａｌ＋３（Ｏ）　?　Ａｌ２Ｏ３　?????　（反应停止） 氧化铝有抗腐蚀性，此时 反应会停止 这种反应，在醋酸的［Ｈ＋］没有共存的时候发生，在金属表面形成不动态，反应停止。——————————————————氧化 ［Ｈ＋］大量存在的场合，不会生成不动态。 Ａｌ＋ ［Ｈ＋］＋２（Ｏ）　?　ＨＡｌＯ２－　????（活性剂） Ａｌ２Ｏ３ ＋ 2［Ｈ＋］　?　ＨＡｌＯ２－ ＋２（Ｏ） ?（缓冲） 共存醋酸　? ［Ｈ＋］的缓冲效果和对于金属表面起到活性剂的作用。 ————————————————————————生成融合物。 ◇第三阶段（中间态和酸的反应） ＨＡｌＯ２－＋３ＨＮＯ３　?　Ａｌ（ＮＯ）３＋２Ｈ２Ｏ　???? ＨＡｌＯ２－＋Ｈ３ＰＯ４ 　?　ＡｌＰＯ４＋２Ｈ２Ｏ　????? —————————————————————————溶解在磷酸里 最终生成物： ＮＯ－?ＮＯ２－?ＨＡｌＯ２－?Ａｌ（ＮＯ３）３?ＡｌＰＯ４　ｅｔｃ 溶解在H3PO4 反应主要消耗HNO3 CH3COOH 药液浓度控制 从上述反应过程可以看出，刻蚀反应主要是依靠硝酸和醋酸。 因此需要EMS对药液进行浓度控制。 控制方式是通过补充醋酸和硝酸的消耗来维持药液浓度的平衡。 当浓度偏差太大时会影响蚀刻的效果，出现残留等defect. 浓度的变化对制品的影响 刻蚀速率对HNO3的浓度比较敏感，所以需要精确控制。 如图1所示：HNO3↑ H3PO4↓ 的情况 如图2所示：HNO3↓ H3PO4↑ 的情况 CH3COOH达到一定浓度后，对Etch rate影响不大。 附：PR拈附性不良也会造成图1的情况 草酸（英文学名：Oxalic acid） 也称乙二酸，是一种强有机酸，化学式为HOOC-COOH。常见的草酸通常含有两分子的结晶水（H2C2O4·2H2O）。 乙二酸是一种无水透明晶体或粉末，味酸，易溶于水，微溶于乙醚，不容于苯。草酸溶液并不会腐蚀玻璃(SiO2)，但是一些纯度不高的玻璃，因为含有铁、钠等金属离子，这些金属离子可以与草酸结合而溶出，导致玻璃的透明度差，毛玻璃就是利用这样的原理，但是实际上草酸是溶出玻璃中的金属杂质，而非腐蚀玻璃。 ITO刻蚀就是使用浓度为3.3％～3.5％的草酸 3.4%浓度SEM Taper Taper:指蚀刻后的断面倾斜度，影响后续沉积薄膜的覆盖性。 一般Over Etch越大，taper角度越大 药液中的添加剂的作用是改善taper,以及在双层膜蚀刻时保持时刻速率 CD loss CD loss 刻蚀后的关联检测 CDC200：检测刻蚀后的CD 产品首检：更换不同尺寸的产品，需要先对第一片基板检测CD，以确定 机台的状态，保证后续产品的质量 正常产品抽检：在生产中对产品按一定规则进行抽检，对生产状态监控，及时发现异常点，保证产品是稳定的 刻蚀后的关联检测 AEI: After Etch Inspection 衡量刻蚀效果的重要手段(光学显微镜检测) Thank you for attention! * * 清洗 成膜 PR co