基于精密刻划和薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制.pdf

第17卷第7期 光学精密工程 V01．17No．7 andPrecision 2009年7月 Optics Engineering Jul．2009 文章编号 1004—924X(2009)07—1497—05 基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制 吴 娜h2，张善文h2，宋可平3，巴音贺希格1，齐向东1，高键翔1 (1．中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，吉林长春130033； 2．中国科学院研究生院，北京100049；3．清华大学精密仪器与机械学院，北京100034) 摘要：给出了采用光栅刻划和镀膜技术相结合研制光盘分束光栅的方法。采用光栅刻划机在金属膜上刻制占宽比为0．5 的黑白光栅，并由黑白光栅翻制出制作光盘分束光栅的掩模版。通过掩模版对涂覆在K9玻璃基底上的光刻胶实施曝 光和显影形成光刻胶矩形浮雕光栅，在理论设计的误差允许范罔内，对此浮雕光栅沉积SiOz薄膜，去除残余光刻胶后得 到SiO。矩形光栅母版，再经复制工艺制作了环氧树脂光盘分束光栅。测试结果表明，利用光盘分束光栅的纵向和横向 加工误差的互补性，町以将光栅辅助光束与读写主光束强度之比的误差控制在土0．03之内。 关键词：光学头；分束光栅；精密刻划；镀膜技术；加工工艺 中图分类号：O436．1；TN305．7文献标识码：A Manufacturefor in disk optical lightsplittinggrating thinfilm basedon and ruling deposition precision WU Nal一，ZHANGShan—wenl”，SONG Xiang—don91，GAOJian—xian91 Ke—pin93，Bayanheshi91，QI Institute Mechanicsand Academyof (1．ChangchunofOptics，Fine Physics，Chinese 130033，China； Sciences，Changchun 2．Graduate Chinese 100049，China； of AcademyofSciences，Beijing University and 100084，China) PrecisionInstruments 3．Departmentof basedon andthinfilm methodfora ruling Abstract：A lightsplittinggrating precision manufacturing of wasru