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通过石墨烯原位杂化显著提高二氧化钛 光催化降解亚甲基蓝 摘要：石墨烯/TiO2光催化剂是通过在温和条件下原位石墨化的方法制备的。介绍了将石墨烯引入TiO2上能提高它的光催化能力。将石墨烯/TiO2与单层碳壳（0.468nm）， 前言：在过去的十年间，光催化在污水处理方面得到极大的研究因为它对所有污染物的降解能力和广泛的综合实用性。基于目前的研究，作为一个高效、无毒、光化学稳定性好、低成本的光催化剂二氧化钛对顽固的有机污染物的完全降解得到了深入的研究。然而，量子率低阻碍了这种技术的应用。因而几种有效的方法被应用改善二氧化钛的光催化过程，比如掺杂，与过渡金属的共沉积，两种半导体材料混合。通过上述几种方法可以部分改善二氧化钛的光催化活性，然而仍存在几个重要的问题。例如，掺杂物质的热不稳定性和迁移-再结合的可能性增加。 非定域的共轭π键结构已经证明可以引起光诱导电荷的快速分离和在电子迁移过程中相对低的再结合性。我们课题组找到具有共轭π键的材料与半导体材料杂化作为一种有效的光催化剂，比如C60，聚苯胺。石墨烯是一种二维的材料，可以单，双和几层（小于等于10）层组合在一起形成六元环结构。它吸引了大量的科学关注由于它在机械性，电学性能，热学性能和光学方面的突出表现。一些研究着重于以石墨烯为基的电容器，生物传感器，太阳能电池，液晶显示器方面。石墨烯具有共轭结构，与二氧化钛组合在一起可能是提高电子分离率在迁移过程中的一个理想系统。据我们所知，目前很少的研究是关于这个课题的。最近TiO2分散在石墨烯纳米层片中（从氧化石墨烯中还原合成）被报道能提高光催化活性，但是，石墨烯与半导体材料之间的机理仍然需要进一步的研究。我们课题组发现把具有共轭π键结构的材料涂在TiO2表面可以明显的提高TiO2的光催化活性。目前的工作，我们找到一种温和的方法来在原位上合成石墨烯与TiO2（GT）光催化剂。三聚氰胺被用作碳源，它有六元环结构，N原子可以移除在N2的气氛下持续加热可以在二氧化钛表面形成石墨烯结构。这种在原位杂化的方法能在石墨烯与二氧化钛间形成一个更牢固的化学键。这种化学键可以为电子从TiO2到石墨烯的迁移提供一个好的空间条件通过界面，然后过的一个好的光催化活性。另外，我们已经进行了将TiO2用石墨烯层来改善用热液碳化和在800摄氏度石墨化过程，用葡萄糖在为起始原料。我们目前的工作这种原位杂化的方法形成的石墨烯更加温和和可以得到一种更薄的炭层（石墨烯似的炭）。我们发现形成的这种光催化剂有一个最佳的光催化活性用单分子层的具有共轭π键的材料在我们先前的工作中。由于这种石墨烯有独一无二的和出色的的电子性能，GT光催化剂可以取得一个更高的催化活性。先前用单分子层制备的GT光催化剂（~0.468nm）表现出最高的光催化活性此时的是原始的TiO2（P25）的2.5倍用紫外线照射。TiO2和石墨烯之间的结构和它们之间相互作用的机理被系统的研究。 2.实验 2.1 GT光催化剂的准备 三聚氰胺是买自国药集团化学试剂有限公司Microscopic Confocal Raman Spectrometer (Renishaw, RM2000)用632.8nm的光作为光源。高分辨率透射电子显微镜的图像是用Tecnai TF20 transmission electron microscope在200kV的高电压下操作。紫外可见漫反射傅里叶变换红外光谱（DRS）是用Hitachi U-3010 UV-vis spectrophotometer测定的。硫酸钡是对比样品。热重分析和微分热分析（TG—ＤＴＡ）是在空气中操作加热速率是１０摄氏度每分在Dupont 1090热分析仪上。光电子能谱（ＸＰＳ）在PHI 5300 ECSA仪器上操作。子术电压是３.０ＫＶ，Ａｒ离子的电子能级是１.０ＫｅＶ．总有机碳（ＴＯＣ）用Tekmar Dohrmann Apollo 9000 TOC分析仪测定。光电性能测定是用电化学系统(CHI-660China)测定。光催化剂在ＵＶ光下响应的开始和结束被测定都是在０.０ｖ．电化学阻抗谱（ＥＩＳ）的记录是在短路潜在模式下进行的。交流电的正弦曲线振动幅度是５ｍｖ在电极上频率范围是０.０５－１０５Ｈｚ，硫酸根，铵根离子和硝酸根离子的分析是用离子色谱仪（Shimadzu LC-10AS)。 ２.３　光催化实验 　光催化活性的评价是用甲基蓝在ＵＶ（波长２５４ｎｍ）光下的分解表征的。辐射通量的测定是用功率计厂家是Institute of Electric Light Source, Beijing.ＵＶ光是用１１Ｗ的ＵＶ光灯产生的（Institute of Electric Light Sources, Beijing)平均光强度是０.９ｍＷ／㎝2。甲基蓝的水性悬浮量（１００