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安全资料手册的性质PHOTORESISTDEVELOPER-Farnell
修改日期: APRIL 2013
修改的内容 6
安全资料手册的性质
PHOTORESIST DEVELOPER
第1部分:化学品及企业标识
产品标识
产品名称 PHOTORESIST DEVELOPER
产品编号 PDN, EPDN250ML, ZE
化学品的推荐用途和限制用途
推荐的用途 Manufacture of electrical equipment
限制的用途 现在及时我们没有关于用途制约的信息。他们在这张安全数据表将包括, 当可得到时
化学品安全技术说明书提供者的详细信息
供应商 ELECTROLUBE. A division of HK
WENTWORTH LTD
ASHBY PARK, COALFIELD WAY,
ASHBY DE LA ZOUCH, LEICESTERSHIRE
LE65 1JR
UNITED KINGDOM
+44 (0)1530 419600
+44 (0)1530 416640
info@hkw.co.uk
应急电话
+44 (0)1530 419600 between 8.30am - 5.00pm GMT Mon – Fri
第2部分:危险性概述
物质或混合物的分类
标号与 GHS一致
物理化学危害性 没有分类。
人类健康方面 1B 皮肤腐蚀 - H314
环境方面 没有分类。
分类(1999/45/EEC) C;R34.
所有的风险术语和危险性说明见第16部分
标签要素
含有成分 SODIUM HYDROXIDE
符合(EC) No. 1272/2008的标签
警示词 危险
危险性说明
H314 造成严重皮肤灼伤和眼损伤。
防范说明
P280 穿戴防护手套/防护服/护眼装备/面部防护装备。
P305+351+338 如进入眼睛:用水小心冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取出, 取
出隐形眼镜。继续冲洗。
P310 立即呼叫毒物中心或医生。
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PHOTORESIST DEVELOPER
补充的防范说明
P260 请勿吸入蒸汽/ 喷雾。
P264 处理后请彻底清洗受沾染的皮肤。
其他危害
未分类为按照目前欧盟标准的PBT/vPvB。
第3部分:成分/组成信息
混合物
GENERIC ADHESIVE - R10 Xn
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