福井大学工学部物理工学科分子科学讲座.DOCVIP

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福井大学工学部物理工学科分子科学讲座

高輝度放電ランプ用管球材料の 熱処理および点灯による構造変化 2005年2月 分子科学講座 田中 宏志 高輝度放電ランプ用管球材料の熱処理および点灯による構造変化                        提出 2005年2月10日                             氏名  田中 宏志                             学生コード                            担当教員 葛生 伸  シリカガラスはほぼ純粋な非晶質SiO2(二酸化ケイ素)非晶質材料である。この材料を熱処理すると,表面から構造変化が進行していく。シリカガラスの用途の1つにHIDランプ(高輝度放電ランプ)用の管球がある。HIDランプとは電極間の放電により発光するランプの総称である。電球やハロゲン電球に比べて極めて明るく発光効率に優れているという特長を持つため,近年用途が拡大してきている。HIDランプは発光時に長時間高温になるため,管球断面の構造が変化することが考えられる。しかしながら,これに対する系統的な研究はほとんど報告されていない。そこで,HIDランプの熱処理および点灯による断面構造の変化について研究を行った。  HIDランプの構造変化を調べるために、シリカガラス中のOH基の増減と仮想温度とよばれる熱履歴の指標の分布の変化を調べた。十分高い温度TFで安定状態にあったガラスの構造が凍結されたとき、そのガラスの仮想温度はTFであるという。これらの分布は赤外吸収スペクトルからHIDランプの管球断面は1~3 mm程度である。そこで,顕微赤外分光光度計を使用して,30μm角の領域での分光測定を行った。 図に,一例として,点灯に伴う管球断面のOH含有量依存性を示す。顕微分光法を用いることにより,厚さ1.5 mmの管球断面でのOH濃度の変化を明確にすることができる。仮想温度分布も,同様な顕微分光によりその分布を示すことができた。  本研究では次の3つを調べた。 (1) 管球を火炎により加工したときに導入されたOH基の熱処理による除去効果。 (2) 管球を長時間点灯したときの断面の構造変化。 (3) 点灯に伴う断面構造変化に対するシリカガラスの種類の影響。  その結果、次のことがわかった。 (1)OH基の除去には限界があること。 (2)長時間点灯するとOH基が内側に入り込むこと。 (3)シリカガラスの種類によって構造変化の様子が違うこと。 (4) OH基を含まないシリカガラス管球の仮想温度を測定することにより,ランプの温度を推定できることが示唆された。 目次 第1章  序章 1 1.1 シリカガラス 1  1.2 シリカガラスの特性 3  1.3 シリカガラスの種類とその性質 4   1.3.1 溶融石英ガラス 4   1.3.2 合成シリカガラス 5  1.4 OH基と仮想温度 8  1.5 HIDランプ 9   1.5.1 HIDランプの特長と用途 9   1.5.2 HIDランプの構造 10   1.5.3 HIDランプの発光原理 10  1.6 本研究の背景 11 第2章  実験方法 12  2.1 実験項目および試料 12  2.2 測定方法 13   2.2.1 OH濃度測定 13   2.2.2 仮想温度測定 14 第3章  実験結果 16  3.1 HIDランプの熱処理に伴う断面構造の変化 16   3.1.1 OH濃度 16   3.1.2 仮想温度 16   3.1.3 考察 17  3.2 HIDランプ点灯時の管球構造の変化 18   3.2.1 OH濃度 18   3.2.2 仮想温度 20   3.2.3 考察 22  3.3 HIDランプ内に封入したシリカガラス板断面構造の変化 23   3.3.1 OH濃度 23   3.3.2 仮想温度 25   3.3.3 考察 28 第4章  まとめ及び今後の課題 29  4.1 まとめ 29  4.2 今後の課題 29 参考文献 30 謝辞 31                                              序章 シリカガラス  シリカガラスは構成成分のほとんどがSiO2 (二酸化ケイ素)からなる非晶質物質である。非晶質とは、石英などの結晶とは異なり、周期構造が無い物質のことである。SiO2からなる物質はシリカと呼ばれている。このシリカは地殻の構成成分の約60パーセントを占めている。表1.1に地殻の主成分を示す。これは、岩石の主要な構成成分がシリカであることによるものである。このようにシリカは地上でもっともありふれた物質の一つである。岩石中のシリカはほとんどの場合、結晶の形で存在す

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