Ni包覆Al2O3粉体的RCVD法制备及机理研究.pdfVIP

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2017-11-12 发布于湖北
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第２５卷第4期材料科学与工艺 Vｏl.２５ Nｏ.4 ２０ 17年８月 MAＴEＲIAＬＳＳＣIENＣE ＆ＴEＣHNＯＬＯＧＹ Aｕｇ. ２０17 ｊ.ｉｓｓn －ＤＯI：1０.11９５1／ .1００５０２９９Ｎｉ包覆ＡｌＯ粉体的ＲＣＶＤ法制备及机理研究２３葛梦妮，李亚辉，周华思，郭珈旭，张建峰（河海大学力学与材料学院，南京２1００９８）摘要：金属Nｉ包覆于陶瓷粉体的表面，可以促进其烧结、提高导电性或赋予新的功能性质.本文采用旋转化学气相沉积法（ＲＣVＤ），利用二茂镍（NｉＣｐ）前驱体的热分解，借助载体氢气对反应的催化促进作用，在Al Ｏ粉体表面包覆了均匀分２２３散的Nｉ纳米粒子，并研究了包覆温度和原料供应速率对反应产物物相、粒度和形貌的影响规律.研究表明，在包覆温度为－６ × 4５０～５５０ ℃、前驱体二茂镍（NｉＣｐ）供给速率为（０.６～２.０） 1０ kｇ／ｓ条件下，通过对反应过程中镍纳米粒子的包覆温度和２前驱体二茂镍（NｉＣｐ）供给速率调控可对镍纳米粒子的粒径大小和包覆层数进行调控.结合实验结果，分析了载体氢气对２二茂镍反应的催化促进作用，阐述了旋转化学气相沉积条件下Nｉ纳米粒子在Al Ｏ粉体表面均匀包覆的过程与机制.通过２３调控包覆温度和原料供应速率，可以影响前驱体二茂镍的分解行为，从而调控镍纳米粒子在Al Ｏ粉体表面的包覆状态. ２３关键词：Al Ｏ粉体；镍纳米粒子；粉体包覆；旋转化学气相沉积法（ＲＣVＤ）；包覆机理；包覆层２３－－－中图分类号：ＴＢ３３３文献标志码：A 文章编号：1００５０２９９（２０17）０4 ００7８０６ＰｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄｍｅｃｈａｎｉｓｍｏｆＮｉｎａｎｏｐａｒｔｉｃｌｅｓｏｎＡｌＯｂｙｒｏｔａｔｉｎｇ２３ｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎＧE Mｅnｇnｉ，ＬI Ｙａｈｕｉ，ＺHＯＵ Hｕａｓｉ，ＧＵＯＪｉａx