超纯水制造系统中关于toc的去除、检测和控制管理 toc removal, monitor and running control in ultrapure water treatment system.pdfVIP

净水技术 WATERPURIFICATl0N7IECHNOLOGYVol-25No．32006 超纯水制造系统中关于TOC的去除、检测和控制管理 唐世权 (上海华虹NEC电子有限公司，上海201206) 摘要 就半导体工厂超纯水制造系统中的一个重要污染物TOC进行了比较全面的分析和说明，阐述了超纯水 制造系统中TOC的来源、去除方法、检测手段以及控制管理，对半导体工厂的制水管理人员有很好的借鉴作用。 关键词TOC去除检测控制管理 TOC and controlin WaterTreatment Removal，MonitorRunning Ultrapure System Tang 、 Shiquan Hua NECElectronics 201206,China) (ShanghaiHong Co,Shanghai AbstractThis introducedthe contaminationofTOCin watertreatment paper important Ultrapure system，explained will for TOC ofTOC and contr01．It source，methodsremovM，TOCmonitoring provideexperiencepersonsrunning running watertreatmentinsemiconductor Ultrapure system factory． TOCremovemonitor control Keywords running 随着半导体产业的发展，对清洗硅片用的超纯 面，①原水中含TOC；②回收水中含TOC；③制造系 水的纯度要求越来越高。在超纯水的残留杂质中总 统本身产生的TOC。 有机碳(TOC)的相对含量约占90％以上，实践证明， 原水一般都采用自来水，TOC会因为地区、季 较高的TOC会影响器件的性能，比如氧化膜膜质低 节、气候的变化而有明显的变化，污染较少的地区 下、深度紫外氧化工艺中酸催化不良等。本文就超纯 TOC会比较低；冬季的TOC会显著上升；暴雨季节 水制造系统中TOC的去除、检测和控制管理作了比 的TOC会明显高于晴好天气，上海地区的自来水中 较介绍。 的TOC在2～3．5mg／L之间。 1 超纯水制造系统中TOC的来源 为了节约用水，半导体工厂的纯水制造系统普 超纯水制造系统中TOC的来源一般有三个方 遍会设有回收水处理，而回收水的水质是影响纯水 投药到沉淀池出水浊度反馈约需2h，调节滞后严 4小结 重，浊度反馈形同虚设，建议在沉淀池前段设立浊度 流动电流混凝投药控制系统以单一的SCD值 反馈或采用FCD等方式反馈控制投药量，加快SCD控制投药，具有设备简单，调节快速的优点，但在日 的调节速度。 常的运行管理中，还需要根据具体的水质条件、净水 系统的特点