actiflo(r)工艺技术应用于硅片研磨废水处理 application of actiflo(r) technological processes in silicon wafer grinding wastewater treatment.pdfVIP
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actiflo(r)工艺技术应用于硅片研磨废水处理 application of actiflo(r) technological processes in silicon wafer grinding wastewater treatment
WaterPurification
净水技术2013,32(2):36—38,56 Technology
Actiflo@_m_艺技术应用于硅片研磨废水处理
王永健
(威立雅水处理技术(上海)有限公司,上海200001)
摘要考虑到硅片研磨废水浊度高、悬浮固体粒径小及难于沉淀的水质特点,并依据处理水量的增加和后期回用的要求,采
m3/h提高到40mVb,
用Actino固嗷砂压载絮凝工艺对现有的混凝沉淀处理装置进行升级改造。改造后处理能力由原来不到20
120
表明Ac衄。固暾砂压载絮凝工艺对难处理的高浊度硅片研磨废水具有稳定且良好的处理效果。进水浊度平均值为2 NTu,
NTU,浊度去除率高达99%以上。
装置处理后出水浊度小于10
压载絮凝 微砂循环
关键词 研磨废水 Actino@高效沉淀池
中图分类号:X703.1 文献标识码:B 文章编号:1009-0177(2013)02—0036-04
inSiliconWafer
of Processes Grinding
ApplicationActiflo@Technological
Treatment
WangYongjian
Water
(VeoliaSolutionTechnology,Shanghai200001.China)
with
Abstract thesiliconwafer wastewater
grinding turbidity,smallsuspendedsolids,difficultlyprecipitating,
Considering hi【gh
the for andfuturereuse advancedActiflo@micro—sandballastflocculationWas
treatment requirement,the process
expansion capacity
to the wastewatertreatmentunitwhichusedconventional andsedimentation
appliedupgradeexistinggrinding coagulation processes.
fromto40mS/h.TheresultsshowthatActfflo@micro-sandballastfloe-
Afterthe treatmentWasincreased20
upgrading,thecapacity
culation hasa andstableeffecton siliconwafer wastewaterwith ofeffluent
high
processgood treating grinding turbidity.Theturbidity
islessthan10NTUwhen ofinfluentis to2120N-11U.Theremovalrateof ismoretha
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