等离子体处理碳纳米管的研究现状及展望-物理学进展.pdfVIP

　第 28 卷 第 1 期 物 　理 　学 　进 　展 Vol . 28 No . 1 　 　2008 年 3 月 PRO GR ESS IN P H YSICS Mar . 2008 　 文章编号 (2008) 0 1007905 等离子体处理碳纳米管的研究现状及展望 1 ,2 2 2 徐 　涛 , 杨静晖 , 傅 　强 ( 1 中国工程物理研究院化工材料研究所 , 四川 绵阳 62 1900 ; 2 四川大学高分子材料与工程学院 , 四川 成都 6 10002) 摘要 : 　采用等离子体处理技术对碳纳米管进行表面处理是一项新兴的技术 ,本文对在碳纳米管处理过程中 ,等 离子体处理工艺参数的选择 , 以及处理前后表面结构变化 、形貌变化 、场发射效应等进行了综述 ,并对等离子体处 理技术在碳纳米管表面修饰中的应用前景进行了展望 。 关键词 :等离子体处理 ; 碳纳米管 ; 表面修饰 中图分类号 : 　O48 　文献标识码 :A 碳纳米管的表面修饰也是利用了等离子体技术的一 0 　前言 系列优势效应 ,近几年逐渐被开发应用 。 本文对在碳纳米管处理过程中 ,等离子体处理 自从 199 1 年 , 日本科学家用真空电弧蒸发石墨 工艺参数的选择 , 以及处理前后表面结构变化 、形貌 电极[ 1] ,并对产物作高分辨透射电镜发现了具有纳 变化 、场发射效应等进行了综述 ,并对等离子体处理 ( ) 技术在碳纳米管表面修饰中的应用前景进行了展 米尺寸的碳的管状物 ———碳纳米管 简称 CN T 后 , 对于碳纳米管的应用及基础研究方兴未艾 。碳纳米 望 。 管具有独特的拓扑结构 , 以及比强度高 、轴向膨胀系 数低 、独特的导热性能和导电性能等 ,被认为是一种 1 　等离子体处理参数 性能优异的新型功能材料和结构材料 , 已成为当前 物理学 、化学 、材料学等领域 的国际研究热点之 常用的等离子体气体 ,包括惰性气体和刻蚀性 一[2～5 ] 。 气体如 A r , H2 , O2 , CF4 , N H3 等 ,都有应用于碳 目前合成碳纳米管的方法很多 ,但无论哪种方 纳米管表面修饰的报道[ 11～16 ] 。不同的气体产生的 法制备的碳纳米管都伴随有无定形碳颗粒 、无定形 处理效果不同 ,采用合适的气体是进行表面修饰的 碳纤维和石墨颗粒等杂质 ,这些杂质与碳纳米管混 关键 。其次 ,等离子体处理工艺参数也与处理效果 杂在一起 ,且化学性质相近 ,不但影响所得复合材料 直接相关 ,不同的装置其参数的匹配也不相同。功 的性能 ,而且也使其性能的测试受到很大的阻碍 。 率密度是等离子体处理中的重要指标 , 即处理功率 因此 ,对碳纳米管进行有效的表面修饰已成为碳纳 与等离子体腔体体积的比值 , 比值越大 ,效应越高 。 米管应用的前提之一[ 6～10 ] 。 目前报道较多的等离子体装置多为试验用 ,腔体体 等离子体是具有化学反应性的 ,表现出与其他 积较小 ,因此多选择较小的功率 。同时 ,与处理效果 物质状态不同的特异性能的气体 ,也称为物质的第 相关的还有处理时间、偏压 、气流量 、真空度等参数 。 四态 。它的