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退火对含氮氟非晶碳膜结构及光学带隙的影响.PDF
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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退火对含氮氟非晶碳膜结构及光学带隙的影响!
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蒋爱华 肖剑荣 王德安
（桂林工学院数理系，桂林 #$%%# ）
（ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿）
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采用射频等离子体增强化学气相沉积法，在不同条件下制备了含氮氟非晶碳膜，着重考察了退火温度对膜结
构和光学带隙的影响 研究发现：在 时，膜仍很稳定，当退火温度达到 时，其内各化学键的相对含量发
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生很大的改变 膜的光学带隙随着退火温度的升高而增大，红外和拉曼光谱分析显示其原因是：退火使得膜内 的
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相对浓度降低， 相对含量升高，导致 带边态密度降低
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关键词：含氮氟非晶碳膜，退火，光学带隙
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（ ）详细分析了退火前后的变化膜结构及组分
M545:
的变化；通过分析膜的紫外—可见光透射光谱（
$B 引 言 RO/
），结合膜退火后结构的变化，对膜的 与结构
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氟化非晶碳（ ：）膜凭借其独特的结构和性
5/2 , 之间的内在关系做了深入探讨)
能有望应用于电子学、光学、医学及包装等领域，备
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