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  • 2017-11-22 发布于福建
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透明导电氧化物AZO薄膜制备和性能探究.doc

透明导电氧化物AZO薄膜制备和性能探究

透明导电氧化物AZO薄膜制备和性能探究   摘要:利用直流磁控溅射法,采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al2O3)为靶材,在普通载玻片上制备了AZO ( Z n O:Al)薄膜。采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,采用分光光度计和四探针法对薄膜的光电学性能进行了测试。结果表明:控制好工艺参数可以制备出致密、均匀并具有良好的光电性能的AZO薄膜;并计算了带隙能量和折射率。 关键词:磁控溅射;电阻率;透过率;AZO;薄膜 中图分类号:TP391 文献标识码:A 文章编号:1009-3044(2014)09-2107-03 1 概述 透明导电氧化物(TCO)薄膜在液晶显示器的透明电极、太阳能电池的窗电极、输入画面用开关、应用于汽车、电车、飞机挡风玻璃、红外线反射膜等诸多领域获得了广泛的应用和研究 [1-3]。作为透明导电氧化物(TCO)薄膜的一种,AZO薄膜即掺铝氧化锌具有热稳定性好,无毒性,原材料Zn和Al储量丰富、价格低廉,更易于刻蚀,易于实现掺杂,且在等离子体中稳定性好的优点.当前AZO 薄膜的制备方法,主要包括化学气相沉积(CVD)[4]、磁控溅射法(MS)[5]、脉冲激光沉积(PLD)、分子束外延(MBE)、溶胶-凝胶( Sol- Gel)等。其中磁控溅射方法以其沉积速率高、成膜质量好、与衬底附着力强、制备成本低而适宜大面积生产

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