磁控溅射制备Ti-Zn-O复合薄膜及其光学性质研究.pdfVIP

第37卷第1期 长春理工大学学报 (自然科学版) V0l-37 N0．1 2014年2月 JournalofChangchunUniversityofScienceandTechnology (NaturalScienceEdition) Feb．2014 磁控溅射制备TIlZn—O复合薄膜及其光学性质研究 朱明海，陈广彬，冯禹，龚楠 ，汪剑波 (长春理工大学 理学院，长春 130022) 摘 要：TiO是作为一种宽禁带半导体材料可作为紫外器件，但因其间接带隙结构、禁带宽度仅为3．0eV等特点，严重影 响其应用范围。本文利用共溅射技术，通过zn掺杂，在K9玻璃基底上制备 了Ti—zn—o复合薄膜，并研究了zn溅射功率 对其结构及光学性质的影响。结果显示：所制备的薄膜为ZnTiO。和不饱和TiO。的复合结构，随着zn粒子的溅射能量增 加，晶粒尺寸和表面粗糙度增加，并可将薄膜本征吸收边蓝移至3．61eV。 关键词：磁控溅射；掺杂；复合薄膜；禁带宽度 中图分类号： 0484．1 文献标识码：A 文章编号