微奈米成型模具技术.ppt

微奈米成型模具技术 本文主要针对微奈米尺寸结构之模具制作技术进行简单的介绍与比较,其中加工的对象主要是以滚轮模具主,此类模具大多应用于光学膜片/反光膜/防伪及印刷业.由于光学与印刷应用领域的差异化,对结木的要求特性不同,导致使用的技术与材料也不同,但其相关的原理是类似. 模具是大量生产膜片的重要工具,凡民生用的印刷包装纸,到计算机显示器内的光学膜,都是藉由模具得以大量的生产到最具经济规模的产品.过去几十年来,滚轮模具应用最多的就是包装业,因此有许多的滚辒加工方法在包装业是很通用性的技术,将这些加工技术应用到微奈米结构上,最大差异就是精度及粗糙度的要求,对于利用转印制程生产微奈米光学组件的各项技术中,最具经济效益的还是连续卷对卷(ROLL TO ROLL;R2R)制程技术,而此制程的关键就是滚轮模具的微奈米结构成型技术 一.前言 加工方法 雷射 电子雕刻 显影蚀刻 精度 最小5um 10um 20um 材料 铜/铝/锌等 铜 铜/钢等 表一 印刷业常用的滚轮加工方法 二.微米级滚轮结构加工方法 实际的应用,量产用的滚轮轮面至少300mm以上,直径150mm以上,因此本文所到的相关加工技术是以满足此类模具为主,表一是包装业中常用的滚加工方法,其中微影+灦式蚀刻算是最古老的方式,分辨率较差,不适合微细图案且有环保处理问题;相对地,电子雕刻及雷射加工技术随着新的设备及技术的更新,使得精度逐渐达到10um以下 在可以制作更细微的图案,电子雕刻加工技术主要是利用钻石雕刻刀,于计算机系统控制下,在铜表面进行雕刻,刻出适当的网纹及深度,作为印刷着墨的载体,其着墨的多寡是由网纹密度及深度所控制: 图一为一般电子雕刻的图样,对照印刷及其滚轮图样 图二是改良的电子雕刻方法,针对传统电子雕刻对于线的连接不良加以改善,加上具有奈米颗粒的油墨也可以印刷出10um的线路,可作为电子组件 图三是电子雕刻滚轮应用于印刷金属线路上之结果,以10um点宽,5um的雕刻深度,使用粒径50nm的奈米银浆和粒径5nm的奈米金浆所印刷的线路,在原子力扫瞄显微镜下看到的立体图案及其表粗糙度,由此可见电子雕刻技术可以作为微奈米印刷的模具制作方法 雷射加工技术已广泛应用于印刷及光学上,例如光学用的网点/印刷业的凹印结构/压纹/纺业的印花图样/防伪结构或精美的包装纸图像等,都无法透过机式的加工方法来达成; 图四所示,显示器背光模块组件中的导光,板,其生产技术之一就是使用雷射加工于金属板上制作不同直径的圆点,分布于金属板上形成射出模具中之模仁,经由射出制程转印模仁结构,形成具有导光学效果的组件,相同的技术也能应用在滚轮模具上,目前光学上所运用的雷射加工在滚轮上的工业应用尚未普及,其原因之一是加工的速度过慢. 图三,(a)以电子雕刻机加工于Cu滚轮上,分别金及银奈米油墨印刷线路上之AFM图及表面粗糙度;(b)印刷后之线路(10um雕刻,3.75um之间距);(c)金屬線路表面形貌 从一般的滚轮模具加工方式进微奈米级结构的加工技术,其所使用的原理都相同,差异只在于结构的尺寸较小,对应产品的粗糙度要求也较低,但是设备成本及速度却有很大的差别,表二是一般常提到的加工方法及其粗糙度的对应比较,,其中自组装方式大多应用于奈米结构上,采用材料本身的特性搭配适当的制程产生结构,例如多孔性阳极氧化膜技术(AAO)或定向自组装技术,由于自组装技术尚处于研究及开发阶,因此不多做叙述. 三.微奈米级滚轮加工方法 加工方法 微影+蚀刻+电铸/PDMS 钻石刀加工 微雷射加工 喷墨+电铸 自组装 结构特性 可局部不规则性 大部分为规则性 可不规则性 大部分为规则性 材料特性而定 表面粗糙度 加工面平滑 加工面为镜面 加工面粗糙 表面平滑 材料特性而定 大面积可行性 低 高 高 中 低 结构再现性 中 很高 高 高 低 表二 微奈米结构制作方法之比较 图五(a)日本综研化学于2012年展出看不的拚接线及(b)由奈米压印制程经周拚接形成R2R模具所生產的光學膜 微影技术是利用光阻在不同光照射下,经显影后产生光罩图案转印的技术,其尺寸精度可由光阻材料及曝光光源的不同而变化,几乎所有的微影技术都是随着晶圆制作的发展而进步,透过高解的能量束(如电子束/聚集电子束等)加工方式,在光阻上刻画出线宽小于1um的图形,再透过离子蚀刻方法增加图案的深宽比,做成微奈米级的结构图案,配合压印成软膜或电铸方法形成膜,这类技术的大多使用于平面加工基材上,再卷绕于滚轮上生产,或直接使用软膜方式进行卷对卷生产,所以从平面成型转为滚轮模具的方式都还有一定面积限制且会有接缝的存在,为了解决接缝的问题,亦有许多公司投入研发无缝滚轮的制作技术,据了解对于深宽比1的结构仍不是非常成功; 2012年日本FPD展会上,综研化学公司展