ITO玻璃基础知识10.pptVIP

1 深圳市宇顺电子有限公司 * 1 ITO玻璃基础知识 编制：佘光全 审核： A版 主要内容 一、什么是ITO玻璃； 二、ITO玻璃的基本结构 三、ITO玻璃的分类 四、ITO玻璃的生产工艺流程； 五、ITO玻璃的评价参数； 六、ITO膜面的判定； 七、ITO玻璃的选用原则； 八、ITO玻璃使用常见问题； 九、ITO玻璃的使用注意事项； 十、ITO玻璃的发展方向 ITO(Indium Tin Oxid)玻璃简介 在普通玻璃的一个表面镀上一层氧化铟锡的导电膜，就形成了LCD常用的氧化铟锡玻璃，通常简称为ITO玻璃。 特点：不仅要求导电性能好，而且还要具有玻璃一样高的透明度 一、什么是ITO ITO玻璃的基本结构: 基板 sio2 ITO 二、ITO玻璃的基本结构 基板: 我公司常用的基板厚度有1.1mm;0.7mm;0.55mm;0.5mm,0.4mm 根据材料的不同,通常分为钠钙玻璃和硼硅玻璃两种;LCD行业中较常用的为钠钙型玻璃. 成本较高 玻璃硬度高,透过率好 硼硅型玻璃 含有钠、钾等离子,易产生渗透,影响产品性能 成本低 钠钙型玻璃 缺点 优点 　 钠钙型玻璃基本成份: 70-73 0-0.3 13-15 1.0-4.5 0-0.2 7-12 0.5-1.9 含量 SiO2 SO2 Na2O+K2O MgO Fe2O3 CaO Al2O3 成份 二、ITO玻璃的基本结构 （1）Si02层的作用: 主要是防止钠钙型基板中的金属离子扩散渗透到ITO层中,影响ITO层的导电能力. （2）SiO2层的膜厚: 标准膜厚一般为250±50埃 （3）SiO2层中的其它成份: 通常为了提高ITO玻璃的透过率,在SiO2中会掺入一定比例的Si3N4 二、ITO玻璃的基本结构 Si02层： ITO(Indium Tin Oxid)层: 为氧化铟锡的透明导电层,其中I表示In2O3，T表示SnO2,一般Sn（即Tin)的含量约为10%。 随着ITO层厚度的增加,ITO层的厚度逐渐减小.通常面电阻与ITO层膜厚的对应关系如下: 10 15 30 50 80 面电阻(Ω) 2000±200 1500±200 700±100 450±50 300±50 ITO层厚度(?) 二、ITO玻璃的基本结构 三、ITO玻璃的分类 根据基板玻璃表面状态的不同，通常分为以下三种类型： 将玻璃的浮法面进行精细的抛光后,在抛光面进行镀膜 超抛光型 STN 将玻璃的浮法面进行简单的抛光后,在抛光面进行镀膜 简单抛光型/TN精选玻璃 HTN 直接在玻璃的浮法面进行镀膜 未抛光型 TN 说明 　类型 四、ITO玻璃的生产工艺流程 ITO玻璃的生产工艺流程主要分为以下三个步骤： （1）切割倒角； （2）抛光； （3）镀膜 注：TN型玻璃不需要抛光。生产工艺流程更简单。 ITO玻璃简要生产工艺流程如下： 原片来料检验 切割 磨边倒角 清洗 检验 清洗 抛光 检查 SI02镀膜 ITO镀膜 检验 包装 入库 四、ITO玻璃的生产工艺流程 TN型玻璃不需经此流程 （1）切割磨边的工艺流程： 切割 磨边倒角 清洗 检查 入库 磨边类型及规格要求： 通常分为C型和R型两种 W 0.05mm?W?0.4mm，45°角 W 0.2mm?W?1.2mm 曲面半径 R?50mm 四、ITO玻璃的生产工艺流程 C型 R型 倒角的形状及公差 四、ITO玻璃的生产工艺流程 （2）抛光工艺流程： 用研磨料将玻璃表面磨平，使玻璃表面平整。对于STN型ITO玻璃是必须经过的一道生产流程 倒角后原片抛光 清洗 检查 入库 包装 四、ITO玻璃的生产工艺流程 （3）镀膜工艺流程： 四、ITO玻璃的生产工艺流程 镀膜方法： 镀膜的方法有：喷雾法；涂覆法；浸渍法；化学气相沉积法；真空蒸发法；测射法，但目前工业化最有效的方法是磁控测射法。 磁控测射法： 在高真空反应室中充入一定比例的02和Ar的混合气体，在直流高压下，Ar被电离，在电场作用下轰击靶材，使铟和锡以原子和离子形式溅射出来，沉积在基板玻璃表面，同时被氧化，形成氧化铟锡膜。 四、ITO玻璃的生产工艺流程 五、ITO玻璃的评价参数 5.1透过率： 在波长为550nm的光波照射下，具有SI02阻档层玻璃的透过率不小于80%，其主要取决于玻璃材料、ITO厚度和折射率。 透过率定义