多主元合金薄膜制备及热稳定性分析.ppt

多主元合金薄膜的制备及热稳定性分析 指导教师：张贵峰教授 答辩人：刘耀东 本文主要内容 研究背景 多主元合金薄膜的制备 多主元合金薄膜的分析 多主元合金薄膜的热处理及分析 结论 高熵合金 高熵合金的定义：合金中主要元素数目n≥5，通常组元数小于13，每个元素摩尔分数在5%~35%之间。 高熵合金薄膜的结构：通常是非晶或者是简单立方结构。 预实验多主元合金薄膜 高熵合金制膜技术：磁控溅射技术 由于靶材上金属片的溅射产额不同，所以需要进行一系列的预实验来调节金属片的大小。 预实验合金薄膜特点：主元数5种以上，合金成分不在高熵合金定义范围内 类高熵合金薄膜的可行性 多主元合金薄膜由于多主元，根据玻尔兹曼函数熵值介于传统合金和高熵合金之间，高熵效应可能仍然会起主要作用。 由于成膜粒子的粒径大小差异较大，所以产生晶格坍塌成非晶。自身仍然可能是非晶结构。 本实验探究的目的是类高熵合金在结构和性能上是否“类高熵”。 多主元合金薄膜样品制备 溅射功率对薄膜成分的影响 不同元素的溅射量不同 靶材上各元素溅射量不同与靶材中金属片面积及金属的电负性有关 Al的电负性是1.5，Cu的电负性是2.2，Ti的电负性是1.54，Si基底的电负性为1.8 电负性大于Si基底的电负性的Cu与基底的亲和性更大，易于在Si基底上沉积，而Al和Ti的电负性都小于Si基底的电负性，与基底的亲和性相同。 靶材Al金属片面积较大，直径为80mm。Al元素溅射的面积较大。 溅射功率对薄膜结构的影响 合金薄膜结构为非晶相原因 由于各元素原子尺寸差距较大，所以晶格畸变能高，畸变的晶格坍塌而形成非晶相。并且组成类高熵合金之间的元素具有较大的负混合焓，因此元素之间具有很大的吸引力，原子结合更加紧密，不容易重排成晶体 不同溅射功率下薄膜的显微硬度和弹性模量 薄膜表面形貌和断面形貌 表面图和断面图的信息 粗糙度随着功率的变化图 膜厚随着功率的变化图 退火后的薄膜成分 退火对合金薄膜的显微硬度和弹性模量影响 退火后的断面形貌 退火后的XRD图谱 对比分析 参考文献 高熵合金数据参考文献 1、ZrTaNbTiW多主元薄膜组织结构和性能研究. 2、Evolution of structure and properties of multi-component （AlCrTaTiZr）O films. 3、Dense and smooth amorphous films of multicomponent FeCoNiCuVZrAl high-entropy alloy deposited by direct current magnetron sputtering. 4、Effects of nitrogen content on structure and mechanical properties of multi-element （AlCrNbSiTiV）N coating. 5、Structural and mechanical properties of multi-element （AlCrMoTaTiZr）N coatings by reactive magnetron sputtering. 6、Effects of substrate bias on the structure and mechanical properties of （AlCrNbSiTi）N coatings. 类高熵合金数据参考文献 结 论 结构上：多主元合金薄膜具有类似于高熵合金的非晶和纳米晶结构。 性能上：显微硬度和弹性模量达到高熵合金的性能范围内。 其他：退火后合金结构几乎不变，硬度没有降低反而升高。 总结：多主元、元素含量不在5%~35%之间的合金薄膜确实具有“类高熵”的效应。 谢 谢 * 变量是溅射功率，分别为25W，50W，100W，150W和200W。 薄膜多主元，合金薄膜中存在元素含量不5%~35之间，如Al的含量超过35%，符合类高熵合金的基本条件。 除了Si基底峰，只有非晶峰，没有晶体峰。说明多主元薄膜内部结构为非晶。 我们发现样品的的薄膜平均硬度在9.029GPa，弹性模量平均在172.873GPa。 溅射功率为25W，选定区域面积为5μm 溅射功率为150W 从断面图可以看出合金薄膜是呈柱状生长，从图中可以看出柱状结构是纳米级别的，推测可能是纳米晶（纳米晶在XRD图谱中是无法看出的）。 主要是磁控溅射成膜机制是岛状生长模式，成膜之前先在基底上形成一个个小岛，最后小岛连接一起成膜，故而柱状成膜。 随着溅射功率的增大，薄膜的粗糙度增大，但是平均粗糙度1.1892nm，表面粒子排布均匀。 随着溅射功率增大，薄膜的厚度逐渐增加，主要是由