热处理对铝箔氧化膜和比电容影响.pdfVIP

； ／ ：．／ ：／ ：舍 ：， ：舍 ：舍 ： ～ 试验研究 ～ 热处理对铝箔氧化膜和比电容的影响 朱宏喜 (河南科技大学材料科学与工程学院，河南 洛阳 471003) 摘 要：对铝箔分别在 300℃、400c=【和500c=【进行0．5h、1h和2h真空退火。测定了铝箔的氧化膜厚度 和比电容，并用扫描电子显微镜观察了退火铝箔的腐蚀形貌。结果表明，在400℃退火的铝箔氧化 膜最薄，300℃退火的居中，500oC退火的最厚。在300℃退火时，随着保温时间的延长，铝箔的氧 化膜厚度减小；而在400℃和500℃退火时，氧化膜厚度增大。500oC退火的铝箔，表面微量元素的 分布较均匀，腐蚀坑较细小且密度大，比电容较高。而较低温度退火的铝箔，微量元素偏聚在表面 的位错周 围，铝箔表面出现大量的腐蚀坑，比电容较小。 关键词：铝箔；氧化膜；腐蚀 ；扩散 中图分类号：TG174．451 文献标识码 ：A 文章编号：1008-1690(2011)06．0039—04 EffectofHeatTreatmentono】i【deFilm andSpecificCapacityofAluminum Foil ZHU Hong—Xi (SchoolofMaterialsScienceandEngineering，HenanUniversityofScienceandTechnology， Luoyang471003，HenanChina) Abstract：Oxidefilm thicknessand specificcapacityofaluminum foilsweremeasuredaftervacuum annealingat 300 ，400 ，and500 for0．5h，1hand2hrespectively，andsurfacecorrosionpatternwasobservedunder SEM ，too．Theresultsshow thatafterbeingseparatelyannealedat400 ℃ ，300oC and500 ℃ ，theoxidefilmsof aluminum foilarecorrespondinglythin，slightlythickerandthethickest．Thethicknessofoxidefilm reduceswith theprolongationofannealingtimeat300 ℃ ．butincreaseswith theprolongationofannealingtimeat400 oC or 500oC．Foraluminum foilannealedat500℃ ．traceelementsareuni~rmlydistributedinthesurfacewithfineand denseetch—pits，resultingingreaterspecificcapacity．Furthermore，whenannealedatlowertemperatures，trace elementswillaccunmlatearounddislocationsofsurfaceofthealuminum foil，causinganumberofetch-pitspresent onthealuminum foilsurfaceandadecreaseinspecificcapacity． Keywords：aluminum foil；oxidefilm；corrosion；diffusion 利用电化学腐蚀技术，在铝箔表面腐蚀出大量 过程中，点蚀优先在表面缺陷与微量元素相结合的 的隧道和孔坑以增大铝箔的有效比表面积 ，用 部位出现 引。表面均匀分布的微量元素会减小点 以制造高比电容的低压电解电容器。铝箔的表面状 蚀坑的尺寸，并提高点蚀坑的密度和腐蚀箔的比电 态影响铝箔的腐蚀行为。研究表明