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基于单一硅材料的光变薄膜特性研究pdf2534Mb-厦门大学学术
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摘要
根据不同的膜系设计要求,光变薄膜是通过在光学玻璃或光学器件的表面依
次沉积多种不同折射率的材料而形成的。由于光变薄膜中各介质层的膜厚满足光
干涉条件,在光源照射下会产生干涉效应,所以薄膜的颜色会随着观察者视角的
变化而改变。这种随角异色的效应是无法被日常所见的彩色复印机或者高精度扫
库
描仪等复印设备所复制或拷贝,而且光变薄膜颜色鲜艳,色彩变化明显,因此其
被大规模地用于货币、支票、证件等产品的印刷防伪以及各种高档产品的包装等。
要
传统光变薄膜通常是采用五层对称结构,涉及到三种不同的薄膜材料,基于单一
摘
硅材料构建光学薄膜的方法是在薄膜的制备过程中只使用单一薄膜材料,通过精
确控制真空室中工作气体的含量来改变材料折射率。用这种方法镀制多层膜成膜
文
机制清楚,镀膜过程比较容易控制,镀膜重复性高。另外,使用硅作为薄膜材料,
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