多晶硅薄膜材料制备技术研究进展-现代化工.PDF

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多晶硅薄膜材料制备技术研究进展-现代化工

第 卷第 期 现代化工 年 月 多晶硅薄膜材料制备技术研究进展 李 嘉 焦玉娟 周正扬 高肖汉 吕雪川 范志平 辽宁石油化工大学化学化工与环境学部化学与材料学院 辽宁抚顺 辽宁石油化工大学化学化工与环境学部生态环境研究院 辽宁抚顺 摘要阐述了多种多晶硅薄膜的制备方法和相关工艺技术介绍了各种工艺条件对多晶硅薄膜材料的结构和性能等的影 响并比较了多种制备方法优点与不足并对今后发展趋势和前景做出展望 关键词多晶硅薄膜化学气相沉积固相晶化金属诱导晶化太阳能电池 中图分类号 文献标志码 文章编号 多晶硅薄膜 是 价较高目前仅应用于尺寸很小的少数显示设备中 一种新型太阳能光电材料具有较高的光敏性以及 低温制备则利用廉价透明易于大面积制备的玻璃 良好的光电稳定性近年来被广泛应用于太阳能光 为衬底进行制备该工艺应用较广泛但制备工艺相 伏发电集成电路平板显示器等领域 对复杂 按照多晶硅薄膜的制备工艺则可以分为直 在不同生长条件下得到的多晶硅 晶 接制备法和间接制备法 粒大小不等排列不同 每个晶粒晶向不同但会表 直接制备法 现出一种主要的生长取向即为择优取向 它影响 着多晶硅薄膜的光电性能和结晶效果 因此研究 直接制备法是指通过改变反应条件控制初始 制备优质多晶硅薄膜就是研究如何加大晶粒尺寸 晶粒的形成和长大在基片上直接得到 而减少晶界并具有高度择优取向 本文中结合近 等离子体增强化学气相沉积法 些年多晶硅薄膜的研究情况综述了多种多晶硅薄 等离子体增强化学气相沉积法 膜材料的制备方法并介绍了不同制备方法和工艺 是一种非常流行 条件对生长过程以及多晶硅薄膜的结晶 的薄膜制备技术采用 的混合气体作为 度晶粒尺寸择优取向光电性能等的影响并比较 气体源借助等离子体辉光放电将气体电离或激发 了多种制备方法的优点与不足 产生反应所需的活性基团活性基团在基片表面发 目前 多晶硅薄膜的制备方法很多 按照

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