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聚合单体对制备SiOx高阻隔性薄膜性能的影响 周美丽，陈强，岳蕾，葛袁静 (北京印刷学院等离子体物理及材料研究室，北京102600) 摘要：本文论述在食品包装保质保鲜方面，对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一 层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验采用13．56MHz的射频等离子体装置。分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO) 和六甲基二硅氧烷(斓DSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体，在载玻片、单晶硅片、PET、BOPP 等包装基材上沉积硅氧阻隔膜。比较了不同单体在制备氧化硅阻隔膜时各种工艺参数的影响。通过傅立叶红 外谱仪(FTIR)分析、扫描电子显微镜(SEM)表征，研究沉积膜的化学组成和结合状态；采用透湿测试仪 测试薄膜的透湿性能，研究工艺参数的变化、表面的结构变化、形貌改变等对薄膜的阻隔性能影响原因。 关键词： PEcvD四甲基二硅氧烷(TMDSO)六甲基二硅氧烷(mmso)高阻隔性薄膜 中图分类号：TB484．3 Abstract：Inthis thecharacterizationofsilicon onPETsubstrates paper，weinvestigated