SiOx抗腐蚀层的大气压DBD等离子体枪合成及性能研讨.pdfVIP

年六届奎再表面工藿擎术鲁设 兰=lIj 2舯6年3_】l SiOx抗腐蚀层的大气压DBD等离子体枪 合成及性能研究 陈强1，张跃飞1，韩尔立1，陈飞2，葛袁静1 1一北京印刷学院，等离子体物理及材料研究室，北京102600 2-jt,京石油化工学院，北京，102600 摘要：本文进行了大气压下等离子体枪合成SiOx薄膜的实验研究．通过傅立叶变换红外光谱和扫 描电子显微镜检测，探索了SiOx薄膜结构随等离子体放电参数之间的关系．实验结果显示，等离子 体枪能在基材表面沉积的具有质地均匀和交联结构SiOx薄膜．在0．1MNaCI溶液中进行动态电位极 化测定，对沉积有SiOx层的碳铜样品进行了抗腐蚀性能研究，结果表明沉积有SiOx层的碳钢样品在 5％的Nacl溶液中腐蚀速率最大可降低15倍，具有良好的抗腐蚀性能． 关键词：DBD等离子体枪，大气压，SiOx薄膜，抗腐蚀性 1引言 无论从经济还是从环保的角度来考虑，金属防腐保护都是一个至关重要的研究领域。如今， 防腐技术已经广泛应用于工业应用中，包括运输、航空、电器和机械工业，甚至印刷行业。如纯金 属的合金化、表面喷涂陶瓷层、铬酸盐转化层、阳极氧化或涂附聚合物层等。即便这些技术具有易 于控制和价格低廉等特点，但毒性反应物、污染物的副产品和环境污染物质(例如六价铬离子是高 毒性和高致癌物质)始终限制了这些技术的应用，因此需要研究和开发相应可替代的新技术。 等离子体技术因其具有优异的表现，在材料改性、聚合和沉积领域，已成为—个热门的研究， 如纺织物的表面接枝Ⅲ、医用材料聚合四、纳米材料‘31和功能材料M1的制备、低介电常数材料的聚 合[Sl等。低气压等离子体条件下用有机硅单体等离子体聚合SiOx层，在提高金属材料的抗腐蚀性能 方面已经取得了可喜的成果…”，但因低气压等离子体固有工艺复杂和成本高等缺点，限制了该技 术的实际应用。介质阻挡放电(DBD)等离子体枪，可在大气压条件下工作，不需要任何真空设备， 能够弥补低气压等离子体技术的不足，特别是在用于腐蚀保护的涂层材料方面。 质阻挡放电等离子体枪沉积SiOx薄膜，作为金属抗腐蚀层的实验研究。进而探索了等离子体功率 变化对薄膜表层结构和形貌的影响。通过对比表面是否涂敷有沉积SiOx层的碳钢样品在NaCl溶 液中的腐蚀速率实验比较，认为大气压等离子体枪在金属材料防腐处理方面是一种非常有用的工 具。 2实验部分 等离子体枪的结构如图1(a)所示，它由一个内电极、石英玻璃管(管径lcm，壁厚O．1ena) 和一个金属薄片的圆筒(直径4ram)构成。在两个电极之间含有石英玻璃介质，是一种典型的介质阻 挡放电系统。Ar气经气体流量计控制，分为两路气流。一路直接通入等离子体枪用于引发放电， 另一路从枪的顶部进入，通过盛有六甲基二硅氧烷的醅瓶作为载气使用。沉积过程中，功率为 步提纯。在将碳钢基材置于等离子体枪沉积SiOx薄膜之前，先对基材分别进行了丙酮和酒精超声 波清洗各10分钟。枪放电等离子体的数码照片如图l∞所示。 第六届奎圈表面I租学术套议 兰州 2006年8月 a b 图la．DBD等离子体枪的结构图抽箍放电等离子体的数码照片 3结果与讨论 cml 480-490cml a11d 量从1uIIlin到4umin。从图中可以看到，波数在106