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ODF真空贴合系统研究
文章编号:1006-6268(2012)11-0034-04
ODF 真空贴合系统研究
刘 亮,杨国波,赵德友,王永茂,于 翔,龚 娟
(成都京东方光电科技股份有限公司 Cell 技术部,四川成都 611731)
摘 要: 文章介绍了 TFT-LCD 生产中, 液晶滴下 (One Drop Filling,ODF) 所涉及真空贴合系统
(Vacuum Align System,VAS)的结构及其发展情况,概述了 VAS 的工艺过程,重点介绍了该系统中真空
单元、基板吸附单元和基板对位单元及其发展。
关键词: 液晶滴下;真空贴合系统;吸附单元;精密对位单元
中图分类号:TB79
文献标识码:B
Research on ODF Vacuum Align System
LIU Liang, YANG Guo-bo, ZHAO De-you, WANG Yong-mao, YU Xiang, GONG Juan
(Cell Department of Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd., Chengdu Sichuan
611731, China )
Abstract: This pape r s how e d the re s e arch and de ve lopm e nt of Vacuum As s e m bly Sys te m (VAS) in ODF proce s s . Introduce d the proce s s of VAS and dis cus s e d the vacuum s ys te m, chuck s ys te m, pre cis e alignm e nt s ys te m and the de ve lopm e nt dire ction.
Keywords: ODF; VAS; chuck unit; pre cis e alignm e nt unit
引 言
贴合以及边框胶固化四个部分[1,2],其中,VAS 是将涂
有封框胶的玻璃基板和滴有液晶的玻璃基板在高真 空条件下,进行精确贴合的工艺设备。该设备主要由
真空单元、基板吸附单元、基板对位单元三大部分构 成,其中真空单元通常为干式真空泵 (Dry Pum p,
DP)与 分 子 泵(Turbo Mole cular Pum p,TMP)的 组
合。基板吸附单元包括上基板吸附部分和下基板吸附 部分,上基板吸附要求较高,经历了传统真空吸盘吸
附到机械吸附,发展到目前广泛采用的静电吸附以及
物理吸附等吸附方式。基板对位单元由 PC 部分、运 动控制部分、标记(Mark)识别部分及工作平台部分
近二十年来,随着平板显示行业的快速发展,
TFT- LCD 技术也出现了日新月异的进步。在成盒
(Ce l)l 工艺段,考虑到产品品质和工艺时间的影响, 由于 ODF 具有其独特优势:(1)不受盒厚、取向膜性
质、面板尺寸等因素限制,液晶注入时间大幅度缩短;
(2)工艺步骤减少,Ce ll 工艺简化;(3)液晶材料利用 率大幅度提高;(4)生产可以实现自动化,所以它被 广泛推广并成功应用到 TFT- LCD 行业中。
ODF 工艺主要包括液晶滴下、边框胶涂布、真空
四个部分组成,高分辨率精密工作平台常采用 UVW
平台,部分采用 XYθ 平台[3] 。
压合完成后,将会进行大气开放。同时为了防止
压合后基板出现相对偏移,需要将基板空白区域封框 胶进行紫外线点固化。
(7)贴合后基板搬出
贴合完成后,机械手将贴合后基板取出,送到下 游。
真空贴合工艺
1
技 术 交 流
VAS 设备的真空贴合过程通常包括图 1 所示的
工艺步骤:
(1)上基板搬入
机械手将涂有封框胶的上基板送入准备好的 VAS 腔室(Cham be r)内,上基台通过吸附力将上基 板吸附住。
(2)下基板搬入
机械手将滴有液晶的下基板送入设备,下基台利 用摩擦力或吸附力固定下基板。
(3)真空抽取
当上下基板完成搬入后,VAS 腔室关闭,抽真空 到 1.0Pa 左右。
(4)粗对位与细对位
下基台调整完成粗对位,接着进行细对位,首先镜 头会识别上基板细对位用 Mark,设备自动计算出每个
Mark 中心,从而换算得到整张上玻璃基板中心。同样
地,得到下基板中心。接下来,上基板固定,下基台微调 进行整张基板中心精确对位。当上下玻璃基板中心坐标
在各个方向的差值小于判定值,细对位完成。
(5)压合
完成上下玻璃基板间距从毫米级到微米级距离 调整,实现上下基板的贴合。根据压合机理分为接触
式和非接触式两种。
(6)大气开放 / 紫外固化
真空单元
2
真空单元是玻璃基板贴合过程中重要的保
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