铁电多层膜与铁电超晶格.pdfVIP

2005年10月 四川大学学报(自然科学版) Oct·2005 42 Issue2 ofSiehuan ScienceEd{tion) Vot 第42 2 Journal University(Natural gN-r-J 文章编号：0490—6756(2005)022—0031—05 铁电多层膜与铁电超晶格 包定华”，阮凯斌 (中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室，广州510275) 摘要：铁电多层膜和铁电超晶格是改善铁电薄膜性能并探索新的物理现象的有效途经．作者结 合自己的研究工作，介绍了铁电多层膜和铁电超晶格的研究现状和进展． 关键词：铁电多层膜；铁电超晶格；性能增强；新性能 中图分类号：0487 文献标识码：A 1引言 铁电薄膜具有良好的介电、铁电、压电、热释电和电光特性，是制备各种高性能微电子、光电子集成器 件，如非易失性存储器、微传感器、微执行器稚光调毹器等的重要毒|料随着人们对器件性能要求的不断提 高，相应地对铁电薄膜材料的性能也提出了更高的要求人们必须不断改善薄膜的制备工艺。同时探索新 的方法制备出性能更好的薄膜材料近年来一些科研工作者通过采用多层膜或超晶格的迭层途径很好地 提高了铁电薄膜的性能，弓l起了人们的兴趣 研究铁电多层膜与铁电超晶格的目的主要是希望通过多层膜的组合，利用膜厚较小时的应力或应变 效应、层间耦合效应等物理效应，探索材料新的物理现象，得到高性能或得到单～材料不具有的耘性能，已 合成的铁电多层膜一般是由两种或两种以上性能不同的薄膜材料交替生长；也可以是同一种材料．但是成 份比倒不同的成份梯度多层膜所组成；还可以构成三明治结构的多层膜而铁电超晶格则是在严格控制材 料的结构、成份、层厚(nm尺度下)等的基础上，由两种或两种以上性能不葡钓薄膜材料交替生长得到的 外延铁电多层膜．研究显示，铁电超晶格的特性与原有铁电薄膜的性能有明显的不同，如巨大的介电常数、 增强的铁电特性等[10J．因此铁电多层膜和超晶格是获得具有良好性能的铁电薄膜材料，并探索新的物 理现象的有效途径 结合我们自己的研究工作，介绍了铁电多层膜和铁电超晶格的研究现状和进展． 2铁电多层膜 化值较大、工作电压低，可用于制作非挥发性随机存取存储器或其它集成微电子器件我们研究了多种Pb 基成份梯度铁电薄膜和成份台阶变化的铁电薄膜，得到了一些有意义的结果[21]．图1显示成份台阶变化 耗分别为342和o，019，剩余极化强度和矫顽场强分别为37．7 pC／a苷和60．4kV／em．与单一成分的 PUS薄膜相比【8 J，成份台阶变化的PeT铁电薄膜具有良好的铁电特性和增强的介电特性这主要是由于 前面沉积的膜层作为后～层的籽晶层，促进了材料的结晶和生长．证实采用多层膜的方法可有车堰于改善材 料的性能． 收稿日期：2005．08．30 基金项目：高等学校全国优秀博士论文作者专项基金(200441)；教育部留学归国人员科研启动基金 *通讯作者stsbdh@XSIIedu∞ 32 四川大学学报(自然科学版) 第42卷 f 目 迎 U i r ； = 呈 葛 i ! 高 ∞8一兮08置o 主 。 』 _虽詈oU。Ib8I|u一盆 —·400 -200 0 200 400 Elec