氧化锌的XRD和TG—DTA分析.doc

氧化锌的XRD和TG—DTA分析 第l8卷第4期 2009年12月 河南教育学院学报(自然科学版) JournalofHenanInstituteofEducation(NaturalScience) Vo1.18NO.4 Dee.2009 doi:10.3969/j.issn.1007—0834.2009.04.011 氧化锌的XRD和TG—DTA分析 张永强,李永 (河南教育学院化学系,河南郑州450046) 摘要:应用恒电流电化学沉积技术,在阴极表面得到ZnO薄膜,并就电流密度,沉积时间,电解液浓度和反应温度等电化学沉 积工艺条件对薄膜材料的组成及结构的影响进行了讨论. 关键词:ZnO;XRD;TG—DTA 中圈分类号:0646.54文献标识码:A文章编号:1007—0834(2009)04—0025—03 文献[1—2]报道的电沉积法制备纳米氧化锌采用的是 阴极恒电位电沉积法,文献[1—4]研究了不同条件对ZnO 结构的影响.本文采用阴极恒电流电沉积法制备ZnO,研究 了不同条件对产物的结构和组成的影响.而有关沉积物组成 与反应条件的关系的研究尚未见报道.研究结果对于进一步 认识产物与反应条件之间的关系具有积极的意义. 1实验部分 采用3电极体系,玻碳电极为辅助电极,饱和甘汞电极 为参比电极,铜片(用砂纸打磨去掉氧化层,保留一定的裸露 面积,其他部分封闭绝缘)为工作电极,电解液为用去离子水 配制的Zn(NO)(上海振欣试剂厂,分析纯)溶液,其他试剂 均为分析纯.取5Oml一定浓度的zn(NO)溶液加入到电 解池中,铜片为阴极,在水浴锅内恒温加热,用恒电位仪加一 定电流,同时用PZ88型直流数字电压表(上海电子仪器厂) 监测工作电极上的电压,反应一定时间后,在铜片表面沉积 一 层沉淀,即得ZnO薄膜. 用HDV一7晶体管恒电位仪(福建三明市无线电二厂) 控制电流,用多晶x一射线衍射仪(日本岛津D/MAX一3B 型,Cu靶,35kV,30mA),热重/差热分析仪(日本岛津DT一 4O)对产物的结构及成分进行了表征. 2结果与讨论 以硝酸锌水溶液作为电解液,以铜片为衬底,制备出了 纳米氧化锌.阴极反应方程式如下]: Zn(NO3)2=2NO3-+zn”,(2.1) NO;+H2O+2e一=NO;+2OH一,(2.2) zn”+2OH一=Zn(OH)2,(2.3) Zn(OH)2=ZnO+H2O.(2.4) 总反应方程式为: zn+NO;+2e一:ZnO+NO;(2.5) 反应条件对产物的结构,组成的影响,分述如下. 2.1电流密度的影响 图1是在Zn(NO.):浓度为0.1M,水浴温度为65, 电沉积15min,不同电流密度下所得产物的x一射线衍射图 (XRD),结果表明我们制得了六方晶系纤锌矿结构的ZnO. 图中的衍射峰属于ZnO的,没有发现其他物质的衍射峰.3 个主峰分别是(100)(002)(101). 由衍射峰的半高宽可知晶体结晶度的高低.半高宽越 窄,晶粒越大,结晶度越高.根据谢乐方程D=0.9A//3cos0计 算晶粒大小.D是晶粒的粒径,A是x射线的波长,0是布拉 格角,口是半高宽.算出了(100)晶面在三种电流密度a,b,C 下的粒径分别为13.7nm,14.4rim,17.1rim.由此可知晶粒 是随电流密度的增大而增大的.这是因为电流密度增加,电 沉积速率加快,一定时间内形成的晶粒就大. 将所得ZnO粉末的衍射峰与标准峰(见JCPDS5—0664. 1992)进行了比较,发现产物的(002)面与(100)面衍射峰的强 度比增大了,表明晶体有一定的(002)面择优取向.这是由于 (002)面的生长方向是垂直于底物(即沿着C轴)的. a:2mA/cm (101):6mA/cm2 收稿日期:2009—08—06 基金项目:教育部留学回国人员科研启动基金资助项目 作者简介:张永强(1977一),男,河南焦作人,河南教育学院化学系讲师 10203040506070 2 图1不同电流密度下所得产物的XRD [zn(NO3)]=0.1M,T=65,t=15min ? 25? 由电沉积过程的反应方程式可知,ZnO是由Zn(OH),分 解而得,所以产物当中可能含有未分解的zn(OH),,只不过 它是无定型的或超出了XRD的检测限. 因此未出现它的衍射峰J.我们对电流密度为10mA/ em时所得产物进行了热重一差热(TG—DTA)分析(图2), 结果证实了有zn(OH)存在.如图2,从137.8开始出现 了失重台阶和吸热峰,失重的质量百分比为10.71%,可能就 是由Zn(OH),受热分解脱水引起的. 137.8—10.71 ——— 十—2P0 l _,『 2112 150270390 温度/ 5l0 图2产物的热重一差热图