原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
!
冬 ，
斤
f
L
‘
卜
L 卜 ‘
卜 ‘
么
咨
1
Ti-Si一纳米薄膜的微结构及力学性能研究 砂
f
不
映
r J
.
Arm红’，孑L向阳’，戴嘉维’，李戈扬 ，‘2 牙 洛 ， ‘
终
(I.上海交通大学余属基复合材料国家里点实脸室，上海200030;2.苏州大学薄膜材料实验室，苏州215006) 护
摘 哭:采用多犯磁拉抢城的方法沉积r-Si-N系纳 广泛的兴趣。本文采用多祀反应浓射工艺。制备了
米浇合膜.利用XRD,TEM 以及EDS千手段分析 不同 i含t的r-Si-N系薄膜.研究了其相组成及
7薄膜的相姐成及徽结构.研究结果表明，薄膜以 徽结构与薄膜力学性能的关系。
TiN为主晶相，并有一定蚤的S几N,俗合物相存在.
这些化合幼LO晶或纳术晶A0TtN晶界相分布，抑
文档评论（0）