超光滑表面加工技术.ppt

超光滑表面加工技术 主要内容 简述 近年来，空间光学、X射线学、紫外光学以及磁记录、光学记录、超大规模集成电路等领域的发展，对上述光学系统的光学元件提出了极精确面型和超光滑表面的加工要求，其表面粗糙度在纳米级。 简述 软X射线光学系统 空间光学（天文望远镜） 强激光系统（谐振腔反射镜面） 集成电路基板 大容量光盘 磁头加工  超光滑表面抛光机理 1.机械磨削去除材料 2.物理碰撞方法去除材料原子 3.化学方法去除工件表面原子 实际上，超光滑表面抛光过程，材料去除并不只是其中的一种方式，多数情况下是三种去除方式的共同作用，只是某一种方式表现得更为明显而已 2.超光滑表面加工技术 目前，超光滑光学元件常用的材料有玻璃、晶体、陶瓷及某些金属， 如熔石英、微晶玻璃、蓝宝石、铝合金、无氧铜、单晶硅等。所以获得 超光滑表面的加工技术有很多。 浴法抛光是美国在20世纪60年代为发展远紫外光学而研究的一种超光滑加工方法。此法在熔石英上获得了粗糙度为0.3nm的超光滑表面。 浴法抛光示意图 FP是日本大阪大学南波教授为加工抛光磁头材料在1977年提出的。该方法已经获得表面粗糙度Rq0.1nm超光滑表面，是目前超光滑表面加工技术中，工件表面粗糙度最小的方法。 该方法是20世纪70年代。澳大利亚计量实验室为抛光法布里-珀罗干涉仪所用高精度光学元件而提出来的。该方法已经在多种材料商获得0.4nm的粗糙度。 在加工超光滑表面时，工件先进行预抛光，使用沥青抛光盘，抛至表面无任何明显疵病，径向磨痕完全去除，平面度达 。换用聚四氟乙烯抛光模具，采用浴法抛光的方法，模具的直径是工件的3~4倍。采用大盘抛小工件可获得比抛光模具好得多的表面。抛光速度要慢，机械振动要小，抛光机主轴摆速为3~8r/min。聚四氟乙烯模具可抛光各种材料，甚至用于较难抛光的材料，如氟化钙、氟化锂、硅等 离子束抛光时在高真空环境下进行的，设备比较昂贵。它是用被加速的离子与工件表面原子核直接产生弹性碰撞，将能量直接传给工件材料的原子，使其逸出表面从而将材料去除，是一种典型的用物理碰撞方法惊醒抛光技术。 等离子体辅助抛光设备由三部分组成：可编程位置控制系统。抛光过程是一个闭环反馈系统的控制过程。抛光头位于工件表面上方几毫米处垂直于被加工表面，由一个5轴CNC来控制，以满足不同表面需要。通过控制抛光头的相关参数可使抛光头的去除函数形状在抛光过程中改变，更加有效提高收敛速度。利用材料去除量控制设备可实时监控表面的去除量，进而实现闭环控制。其中材料去除量是驻留时间的函数，控制精度可达1%. 该方法是1979年由日本大阪大学的莫里等人发展 的一种非接触式超光滑表面加工方法，可用于半导 体材料，玻璃材料和硅、锗，可获得玻璃Rq=0.5nm 和单晶硅表面Rq1nm的粗糙度。 微粒磨料颗粒工件表面的方式： 它是利用磁流变抛光液在磁场中的磁流变特性进行抛光的一种新方法。磁流变抛光是磁流变抛光液在磁场作用下，在抛光区域内形成的具有一定硬度和形状精度的“小磨头”，代替了传统抛光时的抛光膜。在磁场作用下，磁流变抛光液变硬，粘度变大，而且“小磨头”的形状和硬度可由磁场实时控制，而影响抛光区稳定的其他因素都固定不变。这样，既能通过控制磁场来控制抛光区的大小和形状，由能保证在一定磁场强度下抛光区的稳定性。这些特点是传统抛光无法比拟的 磁流变抛光示意图 测量方法： TOPO—3D粗糙度测量仪 ZYGO5500超精密表面粗糙测量仪 临界角法变位测量 TOPO—3D粗糙度测量仪 ZYGO5500超精密表面粗糙测量仪 临界角法变位测量 *长春理工大学本科毕业论文 Sr2Si5N8:Eu2+荧光粉的制备与发光性能 * * 学生姓名: 魏宇峰 专 业: 无机非金属材料工程 指导教师：张希艳 简述 一 超光滑表面加工技术 二 超光滑表面检测技术 三 通常把粗糙度为纳米级的表面称为超光滑表面。超光滑表面加工技术，即超光滑抛光，相当于原子、分子水平上的加工。 超光滑光学元件可用于的高科技领域 简述 1.浴法抛光 2.浮法抛光 3.聚四氟乙烯抛光 4.离子束抛光 5.等离子体辅助抛光 6.磨粒弹性溅射抛光 7.磁流变抛光 1.浴法抛光 1.浴法抛光 2 3 1 4 5 1.液槽 2.抛光液 3.搅拌器 4.抛光盘 5.工件 1.浴法抛光 2.浮法抛光 浮法抛光机的机械构造类似于定摆抛光机。镜盘在磨盘上;电动机驱动主轴使磨盘旋转,镜盘和工件因为磨盘