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applicationplasma deposition
fabricationof
on
techniques
carbonnitridefilms
PresentedHu
by：Wei
Wu
Supervisors：Jiada
Xu
Ning
and
ofI nformationScience
School Engineering
Fudan
University
200433，China
Shanghai
吴嘉达 教授
许宁 副教授
孙剑 副教授
厂
目录
摘要………
ABSTRACT
第一章 引言…………
1．1等离子体相关技术制各纳米结构薄膜的背景……………………………………………7
1．2纳米结构碳氮材料…………………………………………………………………………9
1．3碳氨薄膜材料………………………………………………………………………………lO
1．4本文的内容与总体结构…………………………………………………………………．．1l
l
参考文献………………………………………………………………………………………l
第二章 等离子体相关薄膜制备技术．
2．1氮等离子体和原子束的产生……………………………………………………………．15
2．2等离子体反应气相沉积技术[4】…………………………………………………………17
2．2．1活性等离子体纳米制备的基本特征………………………………………………．．17
2．2．2活性等离子体中建造单元的产生…………………………………………………一18
2．2．3等离子体鞘层………………………………………………………………………。19
l
2．2．4活性等离子体在纳米薄膜制备上的优点…………………………………………．2
2．2．5衬底与催化层………………………………………………………………………．22
2．3原子束辅助脉冲激光烧蚀沉积技术(PLD)[24】………………………………………22
参考文献………………………………………………………………………………………25
第三章 氮气／甲烷混合气体辉光放电发射光谱的研究．
3．1气体放电的定义及基本过程【l】…………………………………………………………28
3．2辉光放电产生装置及实验细节…k……………………………………………………．．30
3．3光谱测量结果与分析……………………………………………………………………．32
3．3．1整体发射光谱………………………………………………………………………32
3．3．2cN基团的形成………………………………………………………………………35
3．3．3cN，N2+，与N2的趋势……………………………………………………………．．35
3．3．4C2多}二jF……………………………………………
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