ITO靶材的微观结构分析研究.pdfVIP

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5 结 语 S,YutakaS·et S,Masakazu a1.[J].Thermo- [4]Toshiyuki chimicaActa,2000,352—353;87-90. 通过分析可以看出,目前国内的ITO靶材制备技 [5]张维佳,王天民,麋 碧.[J].稀有金属材料与工程, 术总体上与国际先进水平仍然有很大的差距,但是通 2004.33(5);448—453. 过国内众多企业和科研单位的努力,目前正在飞速发 [6]李晓杰.张越举,王金相.[J].材料科学与工程学报, 展,可以相信,在不久的将来我国ITO靶材产业必将 2004,22(1),12-14. 步入国际先进行业。 1083—1088. [7]孔伟华.口].无机材料学报,2002.17(5)t 2002, [8]姚吉升,唐三川,陈坚.[J].真空科学与技术t 参考文献: 22147-50. VacuumScienceTechnolo- [1]SudhakarK,MichelB.[J].J [9]大桥健夫,熊原吉一.铟锡氧化物溅射靶[P].CN: gY。2005,9(3)一1993-1996. 1365398A,2002-8—21. Solid 0,Masao O,eta1.[J].Thin [2]Takahisa K,Hideya Films。2006.503I22-28. (1),60-63. Ion· I.Mamoru State Koichiro1.Tetsuhiko S.[J].Solid [3] ofITO Microstructure analysis target XING Wei2,WANG Xiu—qinl,XUEJian-qian91 Peng—feil,XING Zheng—hon91,ZHANG MaterialResearchInstitute,Luoyang471039,Chinat (1.LuoyangShip Normal 464000,China) of andElectronic University,Xinyang Physics Engineering,Xinyang 2.College materialsofinfo

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