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双材料结构无弹性错配时SIF分析
维普资讯
第 16卷 第3期 黑 龙 江 科 技 学 院 学 报 Vo1．16 No．3
2006年5月 JournalofHeilongjiangInstituteofScienceTechnology May2006
文章编号：1671-0118(2006)03-0152-04
双材料结构无弹性错配时SIF分析
刘宝良， 毕贤顺， 孙立红
(黑龙江科技学院 数力系。哈尔滨 150027)
摘 要：针对双材料(薄膜一基底)结构应力强度因子分析过渡到单一材料时，产生较大误差，
对原有计算公式进行了修正。结果表明，对深裂纹问题 ，修正后的计算公式与原有的单一材料结论
吻合较好。这为实验研究及理论分析提供 了一定的参考。
关键词：薄膜一基底结构；裂纹；应力强度因子
中图分类号：TB121 文献标识码：A
AnalysisofSIFofdualmaterialsmedium with
absenceofanyelasticmismatch
L／UBaoliang， BIXianshun， SUN Lihong
(Dept．ofMathematicsandMechanics，HeilongjiangInstituteofScienceandTechnology，Harbin150027，China)
Abstract：ThispaperdiscussestheanalysisofSIFofdualmaterialsmedium (film—substratemedi—
am1．Whenthefilm．substratemedium iStheabsenceofanyelasticmismatchbetweenthefilm andthe
substrate．theconclusioniSimprecise．Thisauthorrevisestheprimaryformula．Theresultsshow thatthe
revisedfomr ulaisconsistentwiththeprimary formulaforthedeepcrackproblems．Theconclusionspro—
videreferencesofrthestudyofexperimentandtheory．
Keywords：film—substratemedium；crack；stressintensityfactor
0 引 言 1 单一材料时应力强度因子的计算
随着信息与微电子技术的飞速发展，薄膜材料 1．1 Y．Murakami的SIF计算公式
在材料科学、微电子、微机械、集成电路等高科技领 裂纹开裂的三维图如图1所示。对于任意形状
的表面裂纹问题，Y．Murakami给出了计算公式 J：
域的应用 日益广泛。由于薄膜材料的力学行为直接
／_———=
影响构成组件的寿命和工作可靠性等，因此，有关薄 Kl =Aro0√订以 (=0．3)， (1)
式中：klmax——I型应力强度因子最大值；
膜材料力学行为的研究成为新的研究热点¨J。文
A——裂纹的几何
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