基于纯硅沸石修饰层的钯复合膜制备方法研讨.pdfVIP

·P．2(XJ9 现代化工 第29卷增TU(1) ·196· 、l¨(19．rH(：11Pnli(-illIn(hl、in 2(X)9年‘=}月 基于纯硅沸石修饰层的钯复合膜 制备方法研究 郭 宇，张雄福，邹红叶，刘海鸥，王金渠 (大连理工大学化工学院精细化工国家重点实验室，辽宁大连lram2) 摘要：以大孔口一A1203陶瓷管(平均孔径为3脚)为载体。采用水热合成法在其表面形成·层纯硅沸囱．(Silicalite一1)修饰层， 利用化学镀法在经过纯硅沸石修饰后的载体表面成功制备出致密钯复合膜，钯膜厚度约为5tan。利用SEM对复合膜的结构和 形貌进行厂分析，J{：在350—500。C范周内对基于纯硅沸石修饰层的钯复合膜进行气体渗透测试表明，该沸石层修饰法制备的钯 钯膜与在载体表面直接制备的钯复合膜性能的差异进行了汁论。 关键词：无机膜；钯膜；沸石；氧气分离；化学镀