OLED器件金属辅助电极蚀刻方法的研讨.pdfVIP

oLED 2006 OLED器件金属辅助电极蚀刻方法的研究 周刚施展吴玉琦徐洪光张积梅何钧余峰 上海广电电子股份有限公司平板显示技术研究开发中心上海200081 2实验 摘要 本文从实验生产角度出发，研究了Mo、Al和Ag等金属作为 OLED器件的辅助电极材料在蚀刻过程中所产生的问题，并 在此基础上提出了几种改进没计方案。新材料的研究和运用 多层镀膜玻璃基板．，光刻制作工艺中一般分为四个步骤：光 对于大幅度提高器件的亮度、寿命以及稳定性会有较大的帮 刻金属辅助电极、光刻ITO电极、光刻绝缘层和光刻阴极隔 助。 离柱。因此用Mo、AI、Ag等金属材料取代cr作为辅助电极。 在制作工艺中，应该考虑后续工艺对金属引线的影响。不同 金属材料的表面导电性测试结果如表一1所示。 关键词 有机电致发光显示器 辅助电极 蚀刻液 基板 方阻(O／sq) Cr 1．24 Mo 0．59 1引言 A1 0．10 Ag 0．08 Device- 有机电致发光显示器(OrganicLightEmitting 表一1不同实验基板方阻测试 OLED)作为一种新型的平板显示器件，被认为是目前最有前 Table-1Resistancemeasurementofdifferentsubstrate 景的平板显示器之一。其典型结构是在透明阳极和金属阴极 问夹有单层或者多层有机薄膜。其中ITO被广泛用做OLED 品名 成分 铝蚀刻液AluminumEtch 的阳极材料，由于ITO的方阻较大。因此在OLED制作中广 Etch HN03／HCL 泛的采用了不同的低电阻金属作辅助电极。主要作用是降低 ITO蚀刻液ITO or有机酸 Etch 了电阻，功耗和器件的起亮电压，使得在同样的电压驱动下 钼蚀刻液Mo Etch ACN／HN03 器件的效率和亮度更高，同时减小了屏的发热量，提高了 铬蚀刻液Chrominum Etch NH40H／H202 OLED器件的寿命和稳定性。因此，在OLED器件制作过程银蚀刻液Ag 中金属辅助电极的选择也是一个很重要的部分。当前OLED 表一2实验中各金属蚀刻液成分 ． Table-2The ofmetaletchantfordifferentsubstrate 器件制作过程中主要采用的是Cr作为金属辅助电极材料，但 component 由于Cr的方阻较大，其重金属离子(Cr6+)具有污染特性， 寻求新的低电阻金属对于OLED器件的性能改善和发