氮离子注入氧化锌薄膜引起的结构-光学和电学性质变化研究.pdfVIP

中文摘要 通过磁控贱射在玻璃基底上制备出了的厚度约为630nm氧化锌(ZnO)薄膜， 在室温下用能量为140keV，剂量为2×1016cm。2的氮(N)离子对该膜进行注入。 注入后的样品在200到600℃范围内真空退火1小时。分别采用了x射线衍射 手段对各种处理条件下的ZnO薄膜进行了分析，详细的研究了它们的结构特性、 表面形貌、化学成分、光学性质和电学特性。 的强度相对较高，表明ZnO薄膜具有较好的结构特性。。在高剂量N离子注入以 后导致了(002)峰和(004)的强度急剧减小。这表明N离子注入已经导致了 薄膜表面结构的严重受损。随后的退火会导致(002)峰和(004)的强度逐渐增 加，这反映了ZnO的晶格结构的恢复。同时，在300。C退火时，(002)的峰位向 小角度发生了偏移，这可能是跟ZnO薄膜的氮氧化物形成有关；而在600℃时， (002)峰和(004)又恢复原位，这说明在较低温度下形成的氮氧化物在高温下 已经分解为气体。而在扫描电子显微镜(SEM)观测到了400C下退火的ZnO 薄膜，发现晶粒大小为30．50ilm。当退火温度达到600C的时候，在薄膜表面发 现了大小约为50nm左右的孔洞，这说明高温退火导致了薄膜表面大量氮氧化物 的分解。 紫外可见吸收和透射光谱(