掺铝氧化锌透明导电膜的研究进展精选.pdfVIP

· 126 · 材料导报：综述篇 2010年 10月(上)第24卷第1O期 掺铝氧化锌透明导电膜的研究进展 刘超英 ，左 岩 ，许 杰 (中国建筑材料科学研究总院玻璃科学研究所 ，北京 100024) 摘要 掺铝氧化锌(AzO)透明导电薄膜作为一种性能优异的多功能材料引起 了研究人员的普遍关注，被认为 是当前极具发展潜力的传统铟锡氧化物(IT0)薄膜的替代者。综述 了AZO薄膜的不同制备工艺，并叙述了衬底温 度、Al掺杂量、氧分压、退火条件、同质缓冲层5个因素对薄膜的结构以及光电性能的影响。针对 AZO透明导电薄 膜的研究现状，提出了今后的研究方向：理论与经验相结合，优化工艺设备，在提高薄膜透光率的同时进一步降低其 表面电阻和制造成本，并不断开拓AZO薄膜新的应用领域。 关键词 透明导电膜 薄膜结构 光电特性 禁带宽度 玻璃基片 ResearchProgressofTransparentConductiveAlum inum-dopedZincOxideFilms LIU Chaoying，ZUOran，XU Jie (ResearchInstituteofGlassScience，ChinaBuildingMaterialsAcademy，Beijing100024) Abstract Asahighperformancemulti—functionalmaterial，aluminum-dopedzincoxide (AZO)transparent conductivefilm hascausedresearchers’widespreadconcern，andisconsideredthereplacerofcurrentgreatpotential traditionalindium tinoxide (IT0)films．DifferentpreparationprocessesofAZO thinfilmsarereviewed．Theeffects ofsubstratetemperature，A1一doped，oxygenpartialpressure，annealingconditionsandhomogeneousbufferlayeron thestructure，opticalandelectricalpropertiesofthefilmsaredescribed．Thefutureresearchdirectionsaccordingto thecurrentstudyareproposed：theoriesshouldbecombinedwithexperience，andoptimizeprocessequipment，mean— while，enhancethetransmittanceofthefilmsandfurtherreducethesurfaceresistanceandmanufacturecostssimulta— neouslyandconstantlyopenupnew AZ0 thinfilmsapplications． Keywords transparentconductiveoxidefilms，film structure，photoelectricalproperties，bandgap，glasssub— Strates 子体的还原作用，使功效降低，这种现象在低温、低等离子体 0 引言 密度下也会发生。这些缺点在很大程度上 限制 了 ITO和 自从Badeker将溅射的镉进行热氧化制备出透明导电 FTO薄膜的研究和应用。 氧化镉薄膜以来，人们对透明导电氧化物 (TC0)薄膜的兴 ZnO：Al(AZ0)作为一种典型的n型半导体薄膜，其禁