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氮气分压对直流磁控溅射Ti．Si．N膜的影响
徐晔蔡殉陈秋龙沈耀
上海交通大学材料科学与工程学院200240
摘要：在利用磁控溅射方法制备Ti-Si-N膜的过程中，反应气体中氮气的分压是一个重要的参数．t本
(XRD)：纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析．结果表明，少量氮气的加
压的增加，膜层中TiN相和Si，N。相的比例减小，同时，TiN晶粒的平均尺寸也逐渐减少．这两个趋势
的共同作用使得Ti-Si-N膜随氮气分压的变化发生非线性的变化。
关键词：Ti-Si-N膜，氮气分压，XRD，纳米压入
Influenceof PartialPressureontheTi-Si—N
N2 Coatings
PreparedbyMagnetronSputtering
{， ‘，
Ye Chen，Yao
Cai,Qiulong
Xt，l，Xun She。n．。
SchoolofMaterialsScience Jiao
and
Engifieering，ShanghaiTorigUniyersity,200．240
AbstractThe isan inTi—Si-N
N2partial important coatings,depositionusingmagne留bn
pre．ssure parameter
this seriesofTi—Si—N were undertheCOnditions6fvarious
work,a N2
sputtering．In coatingsprepared partial
Ti-Simosmc and
pressuresusing target．Thecomposition。microstructurb
mechanic畦pro
一．眵rties
EDS ．1he indicatedthat Ti
．XImandnanoindentationresults the Si-N
using superhardcoatings
withthenanohardnessof53GPacanbeachievedunderacertain ofN2
N2 tll亡increase
partialpressure．With
nanohardnessofTi·Si—N theratioof toSi3N=I
partialpressure，the coa矗n鲋and 1谢phase
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