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纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能精选
物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao)
August A cta Phys. Chim. Sin., 2009, 25(8) :1523-1529 1523
[Article]
纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能
继然1,* 胡 明1 王晓东2 李贵柯3 季 安2 杨富华2
刘 剑3 吴南健3 陈弘达4
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( 天津大学电子信息工程学院, 天津 300072; 中国科学院半导体研究所, 半导体集成技术工程研究中心, 北京 100083;
3 中国科学院半导体研究所, 半导体超晶格国家重点实验室, 北京 100083;
4 中国科学院半导体研究所, 集成光电子学国家重点实验室, 北京 100083)
摘要: 采用双离子束溅射方法在Si N /SiO /Si 基底表面沉积氧化钒薄膜, 在氮气气氛下热处理获得二氧化钒
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薄膜. 利用X 射线衍射(XRD) 、扫描电子显微镜(SEM)和X 射线光电子能谱(XPS)研究了热处理温度对氧化钒薄
膜晶体结构、表面形貌和组分的影响, 利用傅里叶变换红外光谱(FT IR)对二氧化钒薄膜的红外透射性能进行了
测试分析. 结果表明, 所制备的氧化钒薄膜以非晶态V O 和四方金红石结构VO 为主, 经400 益、2 h 热处理后
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获得了(011)择优取向的单斜金红石结构纳米VO2 薄膜, 提高热处理温度至450 益, 纳米结构VO2 薄膜的晶粒尺
寸减小. FT IR 结果显示,纳米VO2 薄膜透射率对比因子超过0.99, 高温关闭状态下透射率接近0. 小晶粒尺寸纳
米VO2 薄膜更适合在热光开关器件领域应用.
关键词: 双离子束溅射; 纳米二氧化钒薄膜; 透射率
中图分类号: O648; O484; TB43
Fabrication and Infrared Optical Properties of Nano Vanadium
Dioxide Thin Films
LIANG Ji Ran1,* HU Ming1 WANG Xiao Dong2 LI Gui Ke3 JI An2 YANG Fu Hua2
LIU Jian3 WU Nan Jian3 CHEN Hong Da4
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