OPTIPRO光谱测量系统.doc

OPTIPRO光谱测量系统 OPTIPRO是一个功能强大的用于光学参数测定的光谱测量系统，可测量Mueller矩阵。它是包括光源和笔记本电脑的简易而紧凑的系统，便携易用。而且可与LCD MASTER配合工作，使测量数据转移到LCD模拟和仿真软件“LCD MASTER”中来研究整个光学系统的性能。此外，它的分析速度非常快，分析仪的测量时间小于30毫秒；操作的灵活性强，系统配置可以简单地改变或增加必要的零件，从而以最小的投入而使其功能得以很好地扩展。主要特色：?高速——分析仪的测量时间小于30毫秒?灵活性——独立的光源，偏光片，样品台和分析仪，系统配置可以简单地改变或增加必要的零件，该功能可以以最小的投入而被扩展。?与LCD MASTER 集成——测量数据可以转移到我们的LCD模拟和仿真软件“LCD MASTER”来研究整个光学系统的性能，包括正在测试的样品。基本规格： Retardation(Δnd) 光轴方向 测量分辨率 0.01(nm) 0.01(deg) 可重复性 3σ＜0.05(nm) 3σ＜0.05(deg) 测量时间 30(msec) 测量参数：Retardation（Δnd）?光轴方位?偏振转换特征(Stokes参数)?LC 单元的预倾斜和扭转角以及：?XY工作台的二维分布?θ－Φ工作台的角度分布?温度控制平台OPTIPRO的应用:?光学薄膜分析：开发，品质认证（QC）?LC透镜?WV或NLC专用薄膜分析?图像配置层的开发?LC元参数分析： TN, VA, IPS, OCB, ECB等?多区域LC单元分析，PSVA或Photo配置：Pre-tilt, cell gap, twist angle, rubbing direction angle.?生物材料开发：旋光（Optical rotation）测量原理：?分析仪旋转方法OPTIPRO种类：