湿法刻蚀应用于楔形结构的制备3.PDFVIP

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  • 2018-01-26 发布于天津
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第卷第期半导体学报年月溶液对的选择性湿法刻蚀应用于楔形结构的制备黄辉王兴妍任晓敏王琦黄永清高俊华马晓宇北京邮电大学北京中国科学院半导体研究所北京摘要利用动态掩膜湿法腐蚀技术研究了溶液对与衬底晶格匹配的材料的腐蚀特性对于的体积比为的溶液随着由增加到相应的腐蚀液对的选择性由降到通过调节腐蚀液的选择性在外延层上制备出了倾角从到的各种楔形结构当为和时相应的腐蚀表面的均方根粗糙度分别为和还研究了溶液的组分与的腐蚀速率间的关系并对腐蚀机理进行了分析关键词动态掩膜湿法腐蚀选择性腐蚀化学湿法腐蚀楔形结构中图分类

第 26 卷  第 7 期 半  导  体  学  报 Vol . 26  No . 7 2005 年 7 月 C H IN ESE J OU RNAL O F SEM ICONDU C TOR S J uly ,2005 HCl/ HF/ CrO3 溶液对 In GaAs/ In GaAsP 的选择性

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